[发明专利]多功能连续式磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应所述立式靶在所述镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应所述倾斜靶在所述镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。

2.根据权利要求1所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的第一侧面开有靶位口，所述靶位口的一侧转动设置第一靶位门板，所述靶位口的另一侧转动设置第二靶位门板，以使所述第一靶位门板与所述第二靶位门板能交替的关闭在所述靶位口处。

3.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板上至少设置一个立式靶座，在所述立式靶座上拆卸式安装有所述立式靶，所述第二靶位门板上至少设置一个倾斜靶座，在所述倾斜靶座上拆卸式安装有所述倾斜靶。

4.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述立式基材承载架的一端设置有第一滑行凹槽，另一端设置第一传动摩擦部，所述镀膜室内侧顶部对应所述第一滑行凹槽设置直立导向轮，所述镀膜室内侧底部对应所述第一传动摩擦部设置摩擦传动轮，所述摩擦传动轮通过传动转轴与所述镀膜室外部的动力装置连接，所述传动转轴与所述镀膜室接触处设置用于密封的磁流体密封件；

在所述直立导向轮的一侧设置倾斜导向轮，对应所述倾斜导向轮在所述倾斜式基材承载架端部设置第二滑行凹槽，在所述倾斜式基材承载架远离所述第二滑行凹槽的一端设置与所述摩擦传动轮相匹配的第二传动摩擦部。

5.根据权利要求4所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述立式靶座的座面与地面呈垂直设置，对应的立式靶的靶面、直立基材承载架的架面也均与地面呈垂直设置，所述倾斜靶座的座面与地面呈夹角α设置，对应的倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面也均与地面呈夹角α设置。

6.根据权利要求3所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板上平行设置两个所述立式靶座，所述第二靶位门板上平行设置两个所述倾斜靶座。

7.根据权利要求2所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，还包括分别设置在所述镀膜室两侧的第一镀膜缓冲室和第二镀膜缓冲室，所述第一镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第一过渡室，所述第二镀膜缓冲室远离镀膜室的一侧设置第二过渡室，所述第一过渡室远离第一镀膜缓冲室的一侧设置进片室，所述第二过渡室远离第二镀膜缓冲室的一侧设置出片室，所述进片室与第一过渡室之间、所述第一过渡室与第一镀膜缓冲室之间、所述第二镀膜缓冲室与第二过渡室之间、所述第二过渡室与出片室之间均设置用于隔绝各个腔室的隔离阀门，所述第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室之间呈贯通设置。

8.根据权利要求5所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述倾斜靶座的座面、倾斜靶的靶面、倾斜式基材承载架的架面与地面的夹角α为锐角。

9.根据权利要求1～8任一所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述进片室、第一过渡室、第一镀膜缓冲室、镀膜室、第二镀膜缓冲室、第二过渡室以及出片室上分别独立设置真空泵机组，使各个腔室能独立抽取真空。

10.根据权利要求2～8任一所述的多功能连续式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封连接的密封圈，所述第二靶位门板周边设置用于与所述靶位口密封连接的密封圈。