[发明专利]一种极紫外光刻照明系统中中继镜组的设计方法有效
| 申请号: | 201210540051.4 | 申请日: | 2012-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN102981375A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
| 发明(设计)人: | 李艳秋;梅秋丽;刘菲 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B17/06;G21K1/06 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李爱英;杨志兵 |
| 地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 紫外 光刻 照明 系统 中继 设计 方法 | ||
1.一种极紫外光刻照明系统中中继镜组的设计方法,该光刻照明系统沿光路方向依次包括光源、聚光镜、双排复眼以及中继镜组构成;其特征在于,该方法的具体步骤为:
步骤101、根据与所述光刻照明系统匹配的投影物镜系统的相关参数,获取照明系统的出瞳直径和出瞳距离,同时获取掩模面弧形区域的尺寸;
步骤102、设定一虚拟面,且虚拟面与光刻照明系统的出瞳面关于掩模面对称;
步骤103、设置一孔径光阑,所述孔径光阑位置与掩模面弧形区域的位置重合,且该孔径光阑的尺寸与掩模面弧形区域的尺寸相同;
步骤104、定义逆向光线追迹过程中遇到的第一片中继镜为第一中继镜,遇到的第二片中继镜为第二中继镜,确定两片中继镜的相对位置关系,即:令第一中继镜的非临近焦点与所述虚拟面的中心重合,且使所述虚拟面经过第一中继镜反射后成像在它的临近焦点上;令孔径光阑经过第一中继镜反射后成像在第二中继镜的临近焦点上,再经过第二中继镜反射后成像在它的非临近焦点上;
步骤105、利用光线追踪原理,基于所述出瞳直径、出瞳距离及两中继镜的相对位置关系,计算出两中继镜的面型参数和位置坐标。
2.根据权利要求1所述极紫外光刻照明系统中中继镜组的设计方法,其特征在于,所述步骤105的具体过程为:
步骤201、将所述虚拟面当作物面,取中心物点进行光线追迹,通过该虚拟面与第一中继镜间的光线长度以及反射角,利用平面几何的方法,计算出第一中继镜的面型参数;
步骤202、根据照明系统的出瞳距离和出瞳直径,利用平面几何的方法计算出所述第一中继镜的位置坐标;
步骤203、取虚拟面中心物点进行光线追迹,通过两中继镜组间的光线长度以及第二中继镜的反射角度,利用平面几何的方法计算出第二中继镜的面型参数;
步骤204、利用平面几何的方法计算第二中继镜的位置坐标;
步骤205、微调第二中继镜的位置和倾斜角度,保证照明系统中的后续元件不会发生光路遮挡。
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