[发明专利]柔性显示器件的制备方法在审
| 申请号： | 201210533754.4 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103035490A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 周伟峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 柔性 显示 器件 制备 方法 | ||
1.一种柔性显示器件的制备方法，其特征在于，在载体基板上形成柔性衬底基板之前，在离型层与载体基板的交界处形成具有粗糙表面的附着层。
2.根据权利要求1所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法具体包括：
提供一载体基板；
在所述载体基板上形成离型层；
在所述离型层与所述载体基板的交界处形成所述附着层；
在形成有所述附着层的载体基板上形成柔性衬底基板；
在所述柔性衬底基板上制备显示器件。
3.根据权利要求1所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法具体包括：
提供一载体基板；
在所述载体基板上形成具有镂空区域的所述附着层；
在所述附着层的镂空区域形成离型层；
在形成有所述附着层的载体基板上形成柔性衬底基板；
在所述柔性衬底基板上制备显示器件。
4.根据权利要求1所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法具体包括：
提供一载体基板；
在所述载体基板上形成所述附着层；
在所述附着层上形成离型层；
在形成有所述附着层的载体基板上形成柔性衬底基板；
在所述柔性衬底基板上制备显示器件。
5.根据权利要求1所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述附着层采用金属氧化物形成，所述金属氧化物选自铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锌氧化物和铟镓锌氧化物中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述附着层采用有机材料形成，并且所述附着层的表面具有凹凸图形。
7.根据权利要求5或6所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底基板采用聚酰亚胺形成。
8.根据权利要求7所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述离型层的材质包括聚对二甲苯及其衍生物、聚四氟乙烯及其衍生物和Zeonor中的一种或多种。
9.根据权利要求7所述的柔性显示器件的制备方法，其特征在于，所述载体基板选自玻璃基板、金属基板、石英基板或有机物基板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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