[发明专利]一种整流二极管的制作方法有效

专利信息
申请号: 201210531985.1 申请日: 2012-12-11
公开(公告)号: CN102983078A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 于能斌;王景波;刘欣宇 申请(专利权)人: 鞍山市华辰电力器件有限公司
主分类号: H01L21/329 分类号: H01L21/329
代理公司: 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 代理人: 张群
地址: 114011 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 整流二极管 制作方法
【权利要求书】:

1.一种整流二极管的制作方法,包括硅片超砂、硅片清洗、清洗石英架和石英砣、扩散、检测、扩散源制作步骤,其特征在于,采用磷、硼、铂液态源一次全扩散工艺,通过磷硅玻璃吸收实现少子寿命的优化分布,其具体操作步骤如下:

1)硅片超砂

将硅片摆在高温四氟架上,放入清洗液中,清洗液的配比是,电子清洗液:去离子水=2.7ml:1000ml,超声清洗30~40分钟,再用60℃~70℃去离子水冲洗,用高纯去离子水超120~150分钟,每30~35分钟更换一次高纯去离子水,然后,用冷热去离子水交替冲洗四遍;

2)硅片清洗

将超砂完的硅片放入1#液中,1#液的配比按体积比是,氨水:过氧化氢:高纯去离子水=1:2:5,在加热器上煮10~15分钟,然后,用高纯去离子水冲洗10~15 遍,再换上新1#液重复煮一遍,最后用冷热高纯去离子水交替冲洗20~25遍;2#液的配比按体积比是,盐酸:过氧化氢:高纯去离子水=1:2:7.在加热器上煮10~15分钟,然后,用高纯去离子水冲洗10~12遍,再换上新2#液重复煮一遍,用冷热高纯去离子水交替各冲洗20遍,最后将清洗干净的硅片放入140~145℃烘箱中烘4~4.5小时;

3)清洗石英架、石英砣

将石英架、石英砣放入体积比为H2O:HF=5:1的氢氟酸溶液中浸泡30~35分钟,然后,取出用冷热高纯去离子水冲洗各20~25遍,放入 140~145℃烘箱中烘2~2.5小时;

4)磷、硼、铂液态源一次全扩散

采用开管扩散,扩散炉温度为1250±1℃,扩散时间为12~15小时,放入磷源、硼源和铂, P型区要求R□P=1.1~1.3 R□/ ?,XjP=90±3μm,扩散时间到后关闭扩散炉电源,自然降温至室温,取出石英架;

5)检测

在伏安特性电压测试台测试全扩散后的硅单晶片,其阻断电压2100V时硼面浓度为R□P=1.1~1.3 R□/ ?,XjP=90±3μm,磷面浓度为R□N=0.6~0.7 R□/ ?,XjN= 28+2μm。

2.根据权利要求1所述一种整流二极管的制作方法,其特征在于,所述磷源、硼源的制作步骤如下:

①磷源制作

取三氯氧磷、无水乙醇配制磷源溶液,三氯氧磷:无水乙醇=10mL:550mL,然后用超声波把磷源溶液均匀超声6.5~7h备用;

②硼源制作

取三氧化二硼、硝酸铝、铂微粉和无水乙醇配制硼源溶液,三氧化二硼:硝酸铝:铂微粉:无水乙醇=28g:21g:0.35g:500mL,然后用超声波把硼源溶液均匀超声14~20h备用。

3.根据权利要求2所述一种整流二极管的制作方法,其特征在于,所述铂微粉粒度为0.1~0.5μm。

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