[发明专利]含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法有效
| 申请号: | 201210530623.0 | 申请日: | 2012-12-10 |
| 公开(公告)号: | CN103866233A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
| 发明(设计)人: | 王轩;张敏;尹万里;孙守建;朱敦智 | 申请(专利权)人: | 北京市太阳能研究所集团有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/14 | 分类号: | C23C14/14;C23C14/34;F24J2/48 |
| 代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
| 地址: | 100012 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 含钛中 高温 太阳能 吸收 涂层 制备 方法 | ||
1.一种含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.选择基体,在基体上制备一层金属红外反射层;
S2.以纯钛为靶材,以氩气和氮气的混合气体作为溅射气体,采用磁控溅射在金属红外反射层上制备第一吸收层,其中氩氮流量比为4:1~6:1,开启钛靶电源,使溅射电流为1.0A~1.5A,使溅射电压不低于450V,得到第一吸收层厚度为150nm~200nm;
S3.保持步骤S2中的靶材和溅射气体种类不变,在第一吸收层上制备第二吸收层,使氩氮流量比为10:1~15:1,溅射电流为0.5A~0.9A,保持溅射电压不低于400V,得到第二吸收层厚度为50nm~100nm;
S4.制备光学减反射层。
2.根据权利要求1所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,步骤S1中选用纯铝为靶材,以氩气作为溅射气体,利用磁控溅射在基体上制备金属红外反射层,开启铝靶电源,使溅射电流为0.5A~1.0A,得到金属红外反射层厚度为100nm~150nm。
3.根据权利要求2所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,步骤S2中的氩氮流量比为5:1,溅射电流为1.25A。
4.根据权利要求3所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,步骤S3中的氩氮流量比为13:1,溅射电流为0.7A。
5.根据权利要求1-4任一项所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,进行步骤S4时保持步骤S3的靶材、溅射气体种类、溅射电流和溅射电压不变,采用磁控溅射在第二吸收层上制备光学减反射层,其中氩氮流量比为5:2~7:2,所述光学减反射层制备时间以从观察窗观察到涂层颜色变为蓝紫色为宜。
6.根据权利要求5所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,步骤S4中的氩氮流量比为3:1。
7.根据权利要求1-4任一项所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,进行步骤S4时保持步骤S3的溅射气体种类、溅射电流和溅射电压不变,以纯铝为靶材,采用磁控溅射在第二吸收层上制备光学减反射层,其中氩氮流量比为3:1~4:1,所述光学减反射层制备时间以从观察窗观察到涂层颜色变为蓝紫色为宜。
8.根据权利要求7所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,步骤S4中的氩氮流量比为7:2。
9.根据权利要求1-4任一项所述的含钛中高温太阳能吸收涂层的制备方法,其特征在于,所述光学减反射层为Si3N4。
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