[发明专利]转印方法及转印装置

权利要求书

1.一种转印方法，将作为被转印物的图案或薄膜从担载所述被转印物的担载体转印到基板的规定位置上，其特征在于，

该转印方法具有：

保持工序，在使在表面形成有第一定位标记的所述基板和在表面上担载所述被转印物以及第二定位标记且具有透光性的所述担载体各自的定位标记形成面彼此相向的状态下，接近保持所述基板和所述担载体，其中，所述第二定位标记是使用与所述被转印物相同的材料来与所述被转印物一起形成的标记，

拍摄工序，从所述担载体的与定位标记形成面相反的表面一侧，经由所述担载体在拍摄单元的同一视场内拍摄所述第一定位标记及所述第二定位标记，

位置检测工序，基于所拍摄的图像，来检测出所述第一定位标记及所述第二定位标记的位置，

定位工序，基于在所述位置检测工序中的检测结果来调整所述基板和所述担载体之间的相对位置，

转印工序，使在所述定位工序中调整了相对位置的所述基板和所述担载体相抵接，来将所述担载体表面的所述被转印物及所述第二定位标记转印到所述基板上；

形成在所述基板上的所述第一定位标记包括彼此分离配置的多个图形图案，而且，该多个图形图案配置为包围定位标记转印区域，在该定位标记转印区域内能够配置所述第二定位标记并使所述第二定位标记与各所述图形图案分离；

在所述定位工序中，通过调整所述基板和所述担载体之间的相对位置，来在所述定位标记转印区域中的未转印所述第二定位标记的区域上，相向地定位所述第二定位标记；

在所述转印工序中，将所述第二定位标记在所述定位标记转印区域内与所述多个图形图案分别分离地转印到所述基板上。

2.如权利要求1所述的转印方法，其特征在于，

通过进行多次依次执行所述保持工序、所述拍摄工序、所述位置检测工序、所述定位工序及所述转印工序的一系列处理，来执行多次所述被转印物从所述担载体向所述基板的转印；

所述第一定位标记具有能够彼此分离地配置与多次转印相对应的多个所述第二定位标记的所述定位标记转印区域；

在各次所述转印工序中，在所述定位标记转印区域内彼此分离地转印所述第二定位标记。

3.如权利要求1或2所述的转印方法，其特征在于，

所述第一定位标记的所述图形图案与所述第二定位标记的图形图案相比，包括低的空间频率成分更多；

在所述拍摄工序中，通过对焦到担载于所述担载体上的所述第二定位标记上来进行拍摄；

在所述位置检测工序中，检测出所述第一定位标记及所述第二定位标记各自的图形图案的重心位置。

4.如权利要求3所述的转印方法，其特征在于，所述第一定位标记的图形图案是实心图形，所述第二定位标记的图形图案是中空图形。

5.一种转印装置，将作为被转印物的图案或薄膜从担载所述被转印物的担载体转印到基板的规定位置上，其特征在于，

该转印装置具有：

转印单元，其在使在表面形成有第一定位标记的所述基板和在表面上担载所述被转印物以及第二定位标记且具有透光性的所述担载体各自的定位标记形成面彼此相向的状态下，接近保持所述基板和所述担载体，进而，使所述担载体和所述基板相抵接来将所述被转印物及所述第二定位标记从所述担载体转印到所述基板上，所述第二定位标记是使用与所述被转印物相同的材料来与所述被转印物一起形成的标记，

拍摄单元，其在由所述转印单元接近保持了所述基板和所述担载体的状态下，从所述担载体的与定位标记形成面相反的的表面一侧，经由所述担载体在拍摄单元的同一视场内拍摄所述第一定位标记及所述第二定位标记，

定位单元，其基于所拍摄的图像中的所述第一定位标记及所述第二定位标记的位置检测结果，来调整所述基板和所述担载体的相对位置；

所述定位单元调整所述基板和所述担载体的相对位置，来在定位标记转印区域中的未转印所述第二定位标记的区域上，相向地定位所述第二定位标记，所述定位标记转印区域是所述基板表面上的由构成所述第一定位标记的多个图形图案包围的区域；

所述转印单元将所述第二定位标记在所述定位标记转印区域内与所述多个图形图案分别分离地转印到所述基板上。