[发明专利]一种金属化学机械抛光浆料及其应用在审
申请号: | 201210528946.6 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN103866326A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C23F3/04 | 分类号: | C23F3/04 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 化学 机械抛光 浆料 及其 应用 | ||
1.一种金属化学机械抛光浆料,包括研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂,其特征在于,还至少含有一种磷酸酯类表面活性剂。
2.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的磷酸酯类表面活性剂至少含有如下结构式的一种或多种:
和/或其中:X=RO,RO-(CH2CH2O)n,RCOO-(CH2CH2O)n;R为C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基(C3H5O3-),n=2~30,M=H,K,NH4,(CH2CH2O)1~3NH3~1和/或Na。
3.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的磷酸酯类表面活性剂至少含有如下结构式的两种或多种:
和/或其中:X=RO,RO-(CH2CH2O)n,RCOO-(CH2CH2O)n;R为C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基(C3H5O3-),n=2~30,M=H,K,NH4,(CH2CH2O)1~3NH3~1和/或Na。
4.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的磷酸酯类表面活性剂的含量为重量百分比0.0005~1%。
5.如权利要求4所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述磷酸酯类表面活性剂的含量为重量百分比0.001~0.5%。
6.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的研磨颗粒为二氧化硅、氧化铝、掺杂铝或覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛、高分子研磨颗粒中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的研磨颗粒的粒径为20~200nm。
8.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的研磨颗粒的重量百分比浓度为0.1~20%.
9.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的络合剂为氨羧化合物及其盐、有机羧酸及其盐、有机膦酸及其盐和有机胺中的一种或多种。
10.如权利要求9所述的金属化学抛光浆液,其特征在于,所述的氨羧化合物选自甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、苏氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、环己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一种或多种;所述的有机羧酸为醋酸、草酸、柠檬酸、酒石酸、丙二酸、丁二酸、苹果酸、乳酸、没食子酸和磺基水杨酸中的一种或多种;所述的有机膦酸为2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-羟基膦酸基乙酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中的一种或多种;所述的有机胺为乙二胺、二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺;所述的盐为钾盐、钠盐和/或铵盐。
11.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的络合剂的含量为重量百分比0.05~10%。
12.如权利要求11所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的络合剂的含量较佳为重量百分比0.1~5%。
13.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化脲、过氧甲酸、过氧乙酸、过硫酸盐、过碳酸盐、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高锰酸钾和硝酸铁中的一种或多种。
14.如权利要求1所述的金属化学机械抛光浆料,其特征在于,所述的氧化剂的含量为重量百分比0.05~10%。
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