[发明专利]氧化膜密接性优异的高强度铜合金板在审
| 申请号: | 201210509036.3 | 申请日: | 2012-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN103160703A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
| 发明(设计)人: | 尾崎良一 | 申请(专利权)人: | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22C9/02;C22C9/04 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 翟赟琪 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氧化 膜密接性 优异 强度 铜合金 | ||
1.一种氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其特征在于,以质量%计含有Fe:0.02~0.5%、P:0.01~0.25%,余量是铜和不可避免的杂质,并且,Fe和P的质量%比Fe/P为2.0~5.0,
并且,通过电子背散射衍射分析对表面进行观察时,当量圆直径低于0.5μm的微细晶粒相对于观察面积的面积比为0.90以下,并且,通过XPS分析得到的表面的C1s的峰值面积值相对于Cu2p的峰值面积值的比C1s/Cu2p为0.35以下。
2.根据权利要求1所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,以质量%计还含有Sn:0.005~3%。
3.根据权利要求1或2所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,以质量%计还含有Zn:0.005~3%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,所述铜合金板的与轧制方向平行的方向上的抗拉强度为500MPa以上,与轧制方向平行的方向上的断裂延伸率为5%以上。
5.根据权利要求1所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,所述XPS分析是进行碱性阴极电解清洗后的XPS分析。
6.根据权利要求5所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,以质量%计还含有Sn:0.005~3%。
7.根据权利要求5或6所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,以质量%计还含有Zn:0.005~3%。
8.根据权利要求5~7中任一项所述的氧化膜密接性优异的高强度铜合金板,其中,所述铜合金板的与轧制方向平行的方向上的抗拉强度为500MPa以上,与轧制方向平行的方向上的断裂延伸率为5%以上。
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