[发明专利]一种颜色可调的太阳能选择性吸收膜系及其制备方法有效
| 申请号： | 201210506859.0 | 申请日： | 2012-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN103017383A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 陆卫;陈飞良;王少伟;俞立明;刘星星;简明;郭少令;陈效双;王晓芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | F24J2/48 | 分类号： | F24J2/48;B32B5/00;B32B15/01;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 颜色 可调 太阳能 选择性 吸收 及其 制备 方法 | ||
1.一种颜色可调的太阳能选择性吸收膜系，其特征在于：在衬底（1）上依次为氮氧化钛薄膜（2）、二氧化钛薄膜（3）、氮化硅薄膜（4）以及二氧化硅薄膜（5），其中：
所述的衬底（1）是Cu箔片，Al箔片，Al箔片、Ni箔片或不锈钢箔片上沉积一层Cu薄膜，或是在Al箔片、Ni箔片、不锈钢箔片或Cu箔片上沉积一层红外高反射的Ag薄膜；优选的，采用Cu箔片上沉积一层红外高反射的Ag薄膜；
所述的氮氧化钛薄膜（2）TiNxOy中，Ti、N、O三种元素的原子比范围为Ti:N:O=1:0.5~1:0.5~2，厚度为40nm～200nm；
所述的二氧化钛薄膜（3）厚度为0nm～60nm，由二氧化钛薄膜的厚度来调节膜系减反中心波长的位置，进而调节膜系的颜色；
所述的氮化硅薄膜（4）厚度为20nm～100nm；
所述的二氧化硅薄膜（5）厚度为50nm～150nm。
2.一种如权利要求书1所述的颜色可调节的太阳能选择性吸收膜系的制备方法，其特征在于：
所述的氮氧化钛薄膜（2）的制备方法为磁控溅射镀膜，采用金属Ti靶材，同时以氮气和氧气两种反应气体进行反应溅射；或者采用TiN陶瓷靶材，以氧气作为反应气体进行反应溅射；或者采用按预先设定的Ti、N、O三种元素原子比烧结好的TiNxOy陶瓷靶材，直接进行溅射镀膜；
所述的二氧化钛薄膜（3）的制备采用金属Ti靶材，以氧气作为反应气体进行反应溅射；或者采用TiO2陶瓷靶材直接进行溅射镀膜；
所述的氮化硅薄膜（4）的制备采用Si靶材，以氮气作为反应气体进行反应溅射；或者采用Si3N4陶瓷靶材直接进行溅射镀膜；
所述的二氧化硅薄膜（5）的制备采用Si靶材，以氧气作为反应气体进行反应溅射；或者采用SiO2陶瓷靶材直接进行溅射镀膜。
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