[发明专利]一种刚挠结合印制电路板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210501731.5 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN102970828A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 马忠义;杨朝志;李丹;杨德智;刘厚文 申请(专利权)人: 成都航天通信设备有限责任公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 詹永斌
地址: 610052 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 结合 印制 电路板 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种刚挠结合印制电路板的制造方法,包括以下步骤刚挠板层压、铣窗口、沉铜电镀、成像、丝印阻焊、热风整平、通断测试、去孔内钻污、挠性板层压覆盖膜,其特征在于:挠性板层压覆盖膜和刚挠板层压步骤在光绘机上进行涨缩量补偿,按照如下公式计算补偿值,

纬向补偿值=纬向值÷经向值×经向补偿值

经向补偿值=5÷9×经向值。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:铣窗口步骤在刚挠板层压前,在沉铜电镀、成像、丝印阻焊和热风整平步骤前在窗口处贴胶带。

3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于:所述胶带由耐高温胶带和大粘度胶带重叠粘贴而成。

4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述铣窗口步骤在刚挠板表面铣出一定深度的槽,在通断测试步骤后将槽铣穿形成窗口。

5.根据权利要求2至4任一项所述的制造方法,其特征在于:利用层压机进行挠性板层压覆盖膜和刚挠板层压步骤,在高压高温进行第一次层压后,再低压低温进行第二次层压。

6.根据权利要求5所述的制造方法,其特征在于:所述去孔内钻污步骤为,将刚挠板浸入高锰酸钾溶液中4-8分钟,然后等离子处理40分钟。

7.根据权利要求5或6所述的制造方法,其特征在于:在刚挠板的金属化孔孔壁镀35-45μm厚的铜。

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