[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210496781.9 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103849318A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、其中，所述抛光液还含有长链表面活性剂，该长链表面活性剂的一端为氨基，另一端为醚。
2.根据权利要求1的抛光液，其特征在于，所述抛光液还含有氧化剂。
3.根据权利要求2的抛光液，其特征在于，所述抛光液还含有聚丙烯酸和/或其盐。
4.根据权利要求3的抛光液，其特征在于，所述抛光液还含有络合剂。
5.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒选自SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一种或多种。
6.根据权利要求5的抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒为SiO2。
7.根据权利要求6的抛光液，其特征在于，所述SiO2的浓度为0.5～20wt％。
8.根据权利要求7的抛光液，其特征在于，所述SiO2的浓度为5～15wt％。
9.根据权利要求1的抛光液，其特征在于，所述长链表面活性剂优选1 0-乙氧基-9，9’-二甲基-1-十胺（CAS：68603-58-7）。
10.根据权利要求1的抛光液，其特征在于，所述长链表面活性剂的质量百分比浓度为0.001～0.2wt％。
11.根据权利要求1 0的抛光液，其特征在于，所述长链表面活性剂质量百分比浓度为0.01～0.05wt％。
12.根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述氧化剂为含卤素的氧化剂。
13.根据权利要求12所述的抛光液，其特征在于，所述含卤素的氧化剂为溴酸钾。
14.根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述氧化剂的质量百分比浓度为0.2～2wt％。
15.根据权利要求14所述的抛光液，其特征在于，所述氧化剂的质量百分比浓度为0.5～1wt％。
16.根据权利要求3所述的抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸和/或其盐为聚丙烯酸铵盐（商品代号5020）。
17.根据权利要求1 6所述的抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸铵盐（商品代号5020）的质量百分比为0.001～0.2wt％。
18.根据权利要求4所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂为胍、双胍、唑、有机磷酸、氨基酸、哌嗪和/或其衍生物。
19.根据权利要求18所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂为碳酸胍、盐酸二甲双胍、羟基乙叉二膦酸(HEDP)，乙二胺四乙酸(EDTA)，甘氨酸(glycine)，哌嗪和/或其衍生物。
20.根据权利要求4所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂的质量百分比为0.5～5wt％。
21.根据权利要求20所述的抛光液，其特征在于，所述络合剂的质量百分比为1～2wt％。
22.根据权利要求1的抛光液，其特征在于，所述抛光液的PH值为8～12。
23.根据权利要求1-22任一项所述的抛光液，其在硅抛光中的应用。
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