[发明专利]基于双重SiO2-ZnO结构的电抽运随机激光器、其制备方法及用途有效

专利信息
申请号: 201210490468.4 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN102931583A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 马向阳;李云鹏;杨德仁 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01S5/30 分类号: H01S5/30;H01S5/042
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 刘晓春
地址: 310027*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 双重 sio sub zno 结构 抽运 随机 激光器 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种电抽运随机激光器,其特征在于:在硅衬底(1)的正面自下而上依次沉积有第一ZnO薄膜(2)、第一SiO2薄膜(3)、第二ZnO薄膜(4)、第二SiO2薄膜(5)和半透明电极(6),在硅衬底(1)背面沉积有欧姆接触电极(7)。

2.根据权利要求1所述的电抽运随机激光器,其特征在于:所述的第一ZnO薄膜(2)、第二ZnO薄膜(4)的厚度为30nm~500nm。

3.根据权利要求1所述的电抽运随机激光器,其特征在于:所述的第一SiO2薄膜(3)、第二SiO2薄膜(5)的厚度为30~100nm。

4.根据权利要求1所述的电抽运随机激光器,其特征在于:所述的半透明电极(6)的厚度为10~30nm。

5.根据权利要求1所述的电抽运随机激光器,其特征在于:所述的半透明电极(6)为半透明Au 电极。

6.一种电抽运随机激光器的制备方法,包括如下步骤:

1) 在硅衬底(1)正面沉积第一ZnO薄膜(2);

2) 在第一ZnO薄膜(2)上沉积第一SiO2薄膜(3);

3) 在第一SiO2薄膜(3)上沉积第二ZnO薄膜(4);

4) 在第二ZnO薄膜(4)上沉积第二SiO2薄膜(5);

5) 在第二SiO2薄膜(5)上溅射半透明电极(6),在硅衬底(1)背面溅射欧姆接触电极(7),制得基于双重SiO2-ZnO结构的电抽运随机激光器。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:所述的第一SiO2薄膜(3)、第二SiO2薄膜(5)采用溶胶-凝胶法制得。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:分别将步骤1)沉积的第一ZnO薄膜(2)、步骤3)沉积的第二ZnO薄膜(4)进行热处理,所述热处理的温度为300~900℃,时间为0.5~5小时。

9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:分别将所述步骤2) 沉积的第一SiO2薄膜(3)、步骤4)沉积的第二SiO2薄膜(5)进行热处理,所述热处理的温度为300~700℃,时间为0.5~3小时。

10.权利要求1~5任一项所述的电抽运随机激光器在形成激光成像的光源中的应用。

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