[发明专利]金属污泥的处理方法有效

专利信息
申请号: 201210489174.X 申请日: 2012-11-27
公开(公告)号: CN103834809A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 廖本卫;林鸿钦 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: C22B7/00 分类号: C22B7/00;C22B3/26;C22B3/46;C25C1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属 污泥 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明是有关于一种金属污泥的处理方法,且特别是有关于一种可将金属回收再利用的金属污泥的处理方法。

背景技术

一般来说,金属污泥的处理方式大都采用焚化法或冷冻萃取法。以焚化法来说,透过高温1000度烧烤的方式来产生金属与灰烬。此方法于过程中会释放出废气而造成空气污染,且此方式所需要使用的能量也较多。以冷冻萃取法来说,是以低温的方式产生金属结晶与硫酸。此方法所需的设备成本较高,且其一次处理过程中能处理污泥的量很少。因此,如何有效率且以低成本及低空气污染的方式而从金属污泥中释出金属为目前的重要课题之一。

发明内容

本发明提供一种金属污泥的处理方法,可减少处理成本以及降低环境污染。

本发明提出一种金属污泥的处理方法,其包括依下步骤。将一金属污泥溶解于一第一酸性溶液中,而形成含有一第一金属阳离子与一第一酸根阴离子的一第一化合物。对第一化合物进行一萃取步骤,以使一树脂材料与第一化合物反应,而形成一金属离子以及一第二酸性溶液。对金属离子进行一置换步骤,以使一第三酸性溶液与金属离子反应,而形成含有一第二金属阳离子与一第二酸根阴离子的一第二化合物,其中第三酸性溶液的浓度大于第二酸性溶液的浓度。对第二化合物进行一电解步骤,而形成一金属。

在本发明的一实施例中,上述的将金属污泥溶解于第一酸性溶液中时,还形成有一含污泥的悬浮物,在对第一化合物进行萃取步骤之前,还包括:进行一过滤步骤,以将含污泥悬浮物滤出;以及对被滤出的含污泥悬浮物进行一脱水步骤,而形成一固体废弃物。

在本发明的一实施例中,上述的树脂材料包括多孔性苯乙烯、多孔性二乙烯苯或多孔性聚苯乙烯。

在本发明的一实施例中,上述的金属污泥包括含铜污泥、含镍污泥、含锡污泥、含锌污泥、含铁污泥、含钛污泥或含锰污泥。

在本发明的一实施例中,上述的第一酸性溶液包括硫酸、盐酸或硝酸。

在本发明的一实施例中,上述的第二酸性溶液包括硫酸、盐酸或硝酸。

在本发明的一实施例中,上述的第三酸性溶液包括硫酸、盐酸或硝酸。

在本发明的一实施例中,上述的第一化合物包括硫酸系金属、硝酸系金属或盐酸系金属。

在本发明的一实施例中,上述的第二化合物包括硫酸系金属、硝酸系金属或盐酸系金属。

在本发明的一实施例中,上述的金属离子包括铜离子、镍离子、锡离子、锌离子、铁离子、钛离子或锰离子。

在本发明的一实施例中,上述的金属包括铜、镍、锡、锌、铁、钛或锰。

基于上述,由于本发明的金属污泥的处理方法是依序透过萃取步骤、置换步骤以及电解步骤而得到较高纯度的金属,相较于现有采用焚化法或冷冻萃取法而言,本发明的金属污泥的处理方法于过程中可降低空气污染、避免耗能并具有低处理成本等优势。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式作详细说明如下。

附图说明

图1绘示为本发明的一种金属污泥的处理方法的流程示意图。

图2绘示图1的金属污泥的处理方法所采用的设备的示意图。

【主要元件符号说明】

S10、S20、S30、S40:步骤

110:酸化槽

120:过滤槽

130:脱水槽

140:萃取槽

150:置换槽

160:金属还原储存槽

170:电解槽

具体实施方式

图1绘示为本发明的一种金属污泥的处理方法的流程示意图。图2绘示图1的金属污泥的处理方法所采用的设备的示意图。请同时参考图1与图2,在本实施例中,依照本实施例的金属污泥的处理方法,首先,步骤S10,于一酸化槽110中,将一金属污泥溶解于一第一酸性溶液中,而形成含有一第一金属阳离子与一第一酸根阴离子的一第一化合物。其中,金属污泥例如是含铜污泥、含镍污泥、含锡污泥、含锌污泥、含铁污泥、含钛污泥或含锰污泥。第一酸性溶液例如是硫酸、盐酸或硝酸,且第一化合物例如是硫酸系金属、硝酸系金属或盐酸系金属。在此,金属污泥以含铜污泥为例说明,而第一酸性溶液以硫酸为例说明。因此,本实施例所形成的第一化合物为一硫酸铜,但并不以此为限。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欣兴电子股份有限公司,未经欣兴电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210489174.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top