[发明专利]一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，该装置适用于中大口径光学元件主动高速抛光加工。

背景技术

国内外现有光学小工具抛光机床中的抛光头结构系统均采用燕尾槽调整偏心、四连杆结构限制主体转动的机构。四连杆结构是在抛光头平转动过程中，限制抛光头主体旋转运动，使抛光头平动，起到抛光头的止转作用。由于平行四连杆部件结构复杂，零件多，零件间的相对运动多，正反向交换运动频繁，易产生振动，限制了平行四连杆式抛光头的高转速运动，影响抛光去除函数的准确性，抛光收敛效率低，故障率高，难以实现中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，该装置能够有效地控制抛光头主体的平转动运动，使双偏心抛光头的公转、自转速度均可以达到400r/min，保证公转和自转不产生任何干涉，不产生振动，提高了抛光加工中运动的平稳性，满足抛光盘高速旋转、快速抛光、减小振动的要求，实现了中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。

实现本发明目的的技术解决方案为：

采用止转的导轨滑块装置：主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成，转轴支座固定在主体上，滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接，在铰接处采用球面轴承连接，使转轴支座通过微小的转动，消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差。这种滑块结构的直线运动，在限制抛光头主体的旋转运动的同时，提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度，改善了运动平稳性，加工中可以得到最大的去除函数。

本发明与现有技术相比，其显著优点是：

（1）在结构上，由原四连杆部件结构改为导轨滑块结构，将转动运动变为直线运动，精简了结构，大幅度减少机械传动的部件关系，减少了零件的安装误差，提高了传动效率，降低了故障率，最大程度地避免了机械频繁正反转引起到振动。

（2）在功能上，止转的导轨滑块装置在抛光过程中能够提高自转的速度，抛光盘可以平稳作用在元件表面进行抛光加工，满足抛光盘高速回转、快速抛光时抑制振动的要求。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明用于抛光头主体止转的导轨滑块装置结构图。

图2是图1的俯视图。

图3是图1的A向视图。

图4是图1的局部放大图B，放大比例4：1。

图5是运动方向图解图。

具体实施方式

参照图1，图2，图3，本发明提供的用于抛光头止转的导轨滑块装置，包括抛光盘（1）、抛光轴（2）、主体（3）、偏心体（4）、主轴（5）、转轴支座（6）、球面轴承（7）、销（8）、套（9）、滑座（10）、滑块（11）、直线导轨（12）、连接板（13）。

参照图1，图2，图4，转轴支座（6）固定在主体（3）上，滑座（10）与转轴支座（6）通过销（8）及套（9）进行轴向连接，滑座（10）与滑块（11）通过螺钉固定连接，铰接处用球面轴承（7）连接，滑块（11）在直线导轨（12）上做直线运动，直线导轨（12）固定连接在连接板（13）中。

参照图3，抛光盘（1）通过抛光轴（2）与主体（3）连接，偏心体（4）与主轴（5）连接，偏心体（4）与主体（3）之间有径向轴线距离偏心尺寸。

参照图5，滑块（11）与滑座（10）沿直线导轨（12）在平面内做X_10-11向直线运动，转轴支座（6）与滑座（10）通过球面轴承（7）连接，转轴支座（6）与主体（3）固定联接在一起，在平面内以角速度ω_3-6作平转动运动，偏心体（4）与主体（3）之间有径向轴线距离偏心尺寸，偏心体（4）以角速度ω₄转动。

抛光轴（2）与主体（3）同轴心，偏心体（4）与主轴（5）同轴心，主轴（5）的动力通过偏心体（4）传递，通过偏心体（4）与主体（3）之间圆周相对位置变化，调整径向轴线距离偏心尺寸，使抛光盘（1）获得不同公转半径；滑座（10）与转轴支座（6）通过销（8）及套（9）进行轴向连接，在铰接处采用球面轴承（7）连接，使转轴支座（6）通过微小的转动，消除抛光头主体（3）转动在平面方向与直线导轨（12）的不平度误差。