[发明专利]一种镉离子表面印迹吸附材料的制备方法无效
| 申请号: | 201210486758.1 | 申请日: | 2012-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN102989429A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
| 发明(设计)人: | 高保娇;门吉英;王蕊欣;李延斌;雷青娟 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
| 主分类号: | B01J20/26 | 分类号: | B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F1/62;C08J9/28 |
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| 地址: | 030006 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 离子 表面 印迹 吸附 材料 制备 方法 | ||
1.一种镉离子表面印迹吸附材料的制备方法,其特征在于:按照如下的方法制备:
步骤一、饱和吸附:将功能接枝微粒HQ-PHEMA/SiO2置于浓度为0.01 mol/L 的Cd2+离子水溶液,氢氧化钠溶液调节溶液体系的pH 值为5.5,置于恒温振荡器中,恒温振荡,滤出微粒,真空干燥,得到饱和吸附Cd2+离子的功能接枝微粒;
步骤二,交联印迹:将步骤一制备的饱和吸附Cd2+离子的功能接枝微粒置于含有Cd2+离子的水和乙醇混合溶剂中,用氢氧化钠溶液调节体系的 pH值,以二氯乙醚为交联剂,在温度为40℃-50℃条件下,二氯乙醚分子两端的氯烷基团与功能接枝微粒HQ-PHEMA/SiO2侧链上的喹啉N原子之间的季铵化进行反应20-26 h,形成交联印迹;
步骤三,模板洗脱:用盐酸溶液反复洗涤步骤二产物,以除去模板离子Cd2+离子,真空干燥,在功能接枝微粒的聚合物薄层中留下了大量的Cd2+离子印迹空穴,从而形成Cd2+离子表面印迹吸附材料。
2.根据权利要求1所述的一种镉离子表面印迹吸附材料的制备方法,其特征在于:步骤一中功能接枝微粒HQ-PHEMA/SiO2中的PHEMA接枝度为30%-40%,HQ的键合密度为1.75mmol/g-1.85mmol/g ,每5L的Cd2+离子水溶液中放入1g的功能接枝微粒HQ-PHEMA/SiO2 ,恒温振荡时间为4 h。
3.根据权利要求1所述的一种镉离子表面印迹吸附材料的制备方法,其特征在于:步骤二中水和乙醇的混合溶剂配制时水和乙醇的体积比为7:3,用氢氧化钠溶液调节体系的 pH值为4.5-5.5。
4.根据权利要求1所述的一种镉离子表面印迹吸附材料的制备方法,其特征在于:步骤三中用0.1 mol·L-1盐酸溶液反复洗涤产物微粒。
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