[发明专利]一种调焦调平装置及调焦调平方法

权利要求书

1.一种调焦调平装置，包括照明单元、投影单元、成像单元和探测单元，其特征在于，所述投影单元包括空间光调制器；其中，所述照明单元的测量光斑入射到投影单元，经空间光调制器调制，出射至基板上，经所述基板反射后再经过所述成像单元进入所述探测单元。

2.如权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述照明单元包括光源、照明镜组及光纤，所述光源发出光经过照明镜组聚光后，由光纤形成测量光斑发出。

3.如权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述投影单元还包括控制装置、投影前组透镜组、第一反射镜组及投影后组透镜组，其中所述控制装置驱动所述空间光调制器调制测量光斑。

4.如权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述成像单元包括成像前组透镜组、第二反射镜组及成像后组透镜组，所述测量光斑经基板反射后依次经过所述成像前组透镜组、第二反射镜组及成像后组透镜组，形成探测光斑。

5.如权利要求4所述的调焦调平装置，其特征在于，所述探测单元包括探测器和运算单元，所述探测器接收所述探测光斑，形成光强信号；所述运算单元根据所述光强信号计算所述基板的形貌。

6.如权利要求5所述的调焦调平装置，其特征在于，所述探测器传递信号至所述控制装置，控制所述控制装置是否驱动所述空间光调制器调制测量光斑。

7.如权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述基板为玻璃基板。

8.一种采用如权利要求1~7中任意一项所述的调焦调平装置进行调焦调平的方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板，

所述照明单元发出测量光斑依次经过所述投影单元、基板及成像单元形成探测光斑被探测单元接收，若所述探测器判断存在重影，则所述空间光调制器调制测量光斑，直至重影消失。

9.如权利要求8所述的调焦调平的方法，其特征在于，所述空间光调制器根据基板的厚度、照射面的大小调制测量光斑。

10.如权利要求9所述的调焦调平的方法，其特征在于，经所述空间光调制器调制后，所述测量光斑的长度Lp小于等于0次光和1次光在基板上的距离Lw，则重影消失；

所述其中，d为所述基板的厚度，α为测量光斑在基板上的入射角，n为基板的相对折射率。

11.如权利要求10所述的调焦调平的方法，其特征在于，所述基板的厚度d的范围为0.2mm~2mm。