[发明专利]低雷达散射截面金属支架及其设计方法

权利要求书

1.一种低雷达散射截面金属支架设计方法，其特征在于，包括：

选定所述金属支架上待设计的数个横截横截面；

对各所述横截面分别采用下述步骤设计：

计算得到所述横截面的尺寸范围，其中，所述横截面的尺寸范围由横截面长轴的尺寸和短轴的尺寸确定；

采用特定公式，并对所述特定公式中的形状控制因子取一组互不相同的值，以得到所述横截面的一组轮廓线表达式，其中，所述特定公式为-L≤x≤0，其中，H为短半轴；L为长半轴；μ为横截面的形状控制因子，μ>0，x为所述横截面轮廓线的横坐标；y为所述横截面轮廓线的纵坐标；

根据低RCS预估公式，从所述横截面的一组轮廓线表达式中选择一个轮廓线表达式，以作为特定轮廓线表达式，并用于横截面的设计；

根据所述金属支架的高度和倾斜角，均匀连接各个所述横截面，以得到所述金属支架的外形。

2.根据权利要求1所述的低雷达散射截面金属支架设计方法，其特征在于，所述得到所述金属支架的外形之后，还包括：

采用矩量法或高频渐进技术，以获得所述金属支架的低RCS和频率之间的对应关系。

3.根据权利要求1所述的低雷达散射截面金属支架设计方法，其特征在于，

选定的待设计的横截面数量为两个，分别为所述金属支架的上横截面和下横截面。

4.一种低雷达散射截面金属支架，其特征在于，所述金属支架的横截面轮廓线满足下述特定公式：

-L≤x≤0，其中，H为短半轴；L为长半轴；μ为横截面的形状控制因子，μ>0，x为所述横截面轮廓线的横坐标；y为所述横截面轮廓线的纵坐标。