[发明专利]低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法

说明书

技术领域

本发明涉及通信技术，尤其涉及一种低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法。

背景技术

在现代隐身目标的设计、研制和试验过程中，常需对所设计的目标雷达散射截面（Radar Cross-Section，以下简称RCS）值，即总散射场，进行诊断测量和评估，为改进设计和隐身性能评估提供参考依据。其中，缩比目标和全尺寸目标的总散射场测量是低可探测性目标RCS测试、改进与性能评估的重要手段之一。总散射场是物体本身的性质之一。在RCS测试试验中，需要设置金属支架，金属支架用于支撑目标，目标比如为金属端帽，金属端帽用于模拟隐形机等实体。金属支架和金属端帽都具有各自的总散射场。为尽量减小金属支架对目标的影响，要求金属支架的总散射场尽量小。

在金属支架的低散射设计中，需要在设计过程中对金属支架的总散射场进行分析和预估计算，为设计改进和定型提供依据。在现有技术中，对金属支架总散射场的预估和计算一般采用两种方法：

(1)几何绕射理论(Geometrical Theory of Diffraction，以下简称GTD)，根据GTD分析，可得到金属支架总散射场的解析表达式，表达式如下：

σVV=4L2π[nsin(π/n)]2[sin(kLsinτ)kLtanτ]2---(1)]]>

σHH=4L2π[ntan(π/n)]2[sin(kLsinτ)kLtanτ]2---(2)]]>

其中，σ_VV和σ_HH分别为垂直极化和水平极化下金属支架的总散射场；为波数，λ为雷达波长；L为金属支架高度；n=2-β/π，β为金属支架前棱边的内劈角；τ为金属支架前棱边的倾斜角。根据上述表达式进而可得到金属支架的总散射场。