[发明专利]柔性衬底处理装置有效
申请号: | 201210481473.9 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN103132116A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 高桥实;斋藤祐美子;桃纯平;森若圭恵;楠本直人 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 林毅斌;林森 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 衬底 处理 装置 | ||
1.一种柔性衬底处理装置,包括:
包括第一退绕机构的衬底搬出部,该第一退绕机构设置有缠绕着柔性衬底的第一筒管;
还原处理部,该还原处理部包括容纳有电解液的第一槽、在所述第一槽中与所述柔性衬底平行的第一电极及使所述柔性衬底浸渍在所述电解液中的第一辊;
包括第二槽的洗涤部,该第二槽容纳有洗涤液及以使所述柔性衬底浸渍在所述洗涤液中的方式支撑所述柔性衬底的第二辊;
包括第一干燥单元的干燥部;以及
包括卷绕机构的衬底搬入部,该卷绕机构设置有卷起所述柔性衬底的第二筒管,
其中,在柔性衬底的搬送路径中,依次组合有所述衬底搬出部、所述还原处理部、所述洗涤部、所述干燥部及所述衬底搬入部。
2.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,其中所述衬底搬出部、所述还原处理部、所述洗涤部、所述干燥部及所述衬底搬入部具有分离的室。
3.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,其中至少所述还原处理部、所述洗涤部及所述干燥部分别设置有气氛控制部。
4.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,还包括:
膜状结构体形成部,该膜状结构体形成部包括:
设置有第三筒管的第二退绕机构;
第一膜状结构体附着单元;以及
第二膜状结构体附着单元;以及
包括第二干燥单元的膜状结构体干燥部,
其中,在所述还原处理部之前的所述柔性衬底的搬送路径中依次设置有所述膜状结构体形成部及所述膜状结构体干燥部。
5.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,还包括设置在所述衬底搬出部与所述还原处理部之间、所述还原处理部与所述洗涤部之间、所述洗涤部与所述干燥部之间以及所述干燥部与所述衬底搬入部之间的夹持辊或狭缝。
6.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,还包括设置在所述柔性衬底的搬送路径中的所述还原处理部和所述洗涤部中的送风处理部。
7.根据权利要求1所述的柔性衬底处理装置,其中所述第一筒管、所述第二筒管、所述第一辊和所述第二辊中的一个或多个用作第二电极。
8.一种柔性衬底处理装置,包括:
包括第一退绕机构的衬底搬出部,该第一退绕机构设置有缠绕着柔性衬底的第一筒管;
还原处理部,该还原处理部包括容纳有电解液的第一槽、在所述第一槽中与所述柔性衬底平行的电极及使所述柔性衬底浸渍在所述电解液中的第一辊;以及
包括卷绕机构的衬底搬入部,该卷绕机构设置有卷起所述柔性衬底的第二筒管,
其中,在柔性衬底的搬送路径中,依次组合有所述衬底搬出部、所述还原处理部及所述衬底搬入部。
9.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,其中所述衬底搬出部、所述还原处理部及所述衬底搬入部具有分离的室。
10.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,其中所述还原处理部设置有气氛控制部。
11.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,还包括:
膜状结构体形成部,膜状结构体形成部包括:
设置有第三筒管的第二退绕机构;
第一膜状结构体附着单元;以及
第二膜状结构体附着单元;以及
包括第二干燥单元的膜状结构体干燥部,
其中,在所述还原处理部之前的所述柔性衬底的搬送路径中依次设置有所述膜状结构体形成部及所述膜状结构体干燥部。
12.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,还包括设置在所述衬底搬出部与所述还原处理部之间以及所述还原处理部与所述衬底搬入部之间的夹持辊或狭缝。
13.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,还包括设置在所述柔性衬底的搬送路径中的所述还原处理部中的送风处理部。
14.根据权利要求8所述的柔性衬底处理装置,还包括洗涤部和干燥部中的一方或双方,
其中,所述洗涤部包括第二槽,该第二槽容纳有洗涤液及以使所述柔性衬底浸渍在所述洗涤液中的方式支撑所述柔性衬底的第二辊,
并且,所述干燥部包括第一干燥单元。
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