[发明专利]一种硅片缓冲装载装置

说明书

技术领域

本发明涉及硅片样品光学测量技术领域，特别涉及一种在半导体行业中，用于测量硅片样品反射的光信号的硅片装载装置。

背景技术

精确地测量硅片样品上单层或者多层薄膜形成的三维结构的临界尺度、空间形貌及材料特性等表面信息在半导体行业中具有十分重要的作用。通常情况下，利用光学测量技术，通过测量硅片样品反射的光信号获得硅片样品表面信息。

现有技术中，用于测量硅片样品表面信息的光学测量设备在使用过程中，硅片样品是通过机械手装载到硅片样品台的吸盘上的。附图1所示为现有技术中的吸盘的示意图；附图2所示为现有技术中的硅片样品台的示意图。该吸盘与该硅片样品台配合使用，该吸盘上设有凹槽，其中标号为1的位置是与机械手相配合的凹槽。在使用过程中，机械手带着硅片样品运动至吸盘，机械手进入吸盘上的凹槽中，将硅片样品放置于吸盘表面，吸盘再通过真空吸附将硅片样品吸附在硅片样品台上，然后，机械手退出，随后，便可以对硅片样品的表面信息进行光学测量。在这一装载过程中，机械手与吸盘内的凹槽必须相互匹配。但是，一般而言，机械手与硅片样品台通常产自不同的厂家，两者之间的绝对匹配往往难以达到，这就需要从厂家单独定制相互匹配的硅片样品台，势必增加光学测量设备的成本。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提出了一种能够实现机械手与硅片样品台任意装载，并且装载过程简单、装载稳定的硅片缓冲装载装置。

本发明提供的硅片缓冲装载装置包括硅片样品台和吸盘，所述吸盘与所述硅片样品台相配合，所述硅片样品台具有底座，还包括缓冲机构，所述缓冲机构连接于所述底座，

所述缓冲机构包括接触平台和升降机构，所述接触平台固定连接于所述升降机构，所述接触平台在所述升降机构的带动下升降。

本发明提供的硅片缓冲装载装置在对硅片样品进行装载时，机械手与硅片样品台能够实现任意装载，并且，装载过程简单、装载稳定。

附图说明

图1为现有技术中的吸盘及其上设有的与机械手相配合的凹槽的示意图；

图2为现有技术中的硅片样品台的示意图；

图3为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置中安装有缓冲机构（该缓冲机构包括接触平台和升降机构）的硅片样品台的示意图；

图4为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置中安装有缓冲机构（该缓冲机构包括接触平台、升降机构和三向调节机构）的硅片样品台的示意图；

图5为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置中三向调节机构一个方向的示意图；

图6为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置中三向调节机构另一个方向的示意图；

图7为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置中相互配合的两个三向调节机构的示意图；

图8为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置拆除吸盘之后的示意图；

图9为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置上应用的小凸块及其上设有的锥形凸起的示意图；

图10为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置上应用的小凸块及锥形凸起对硅片样品小范围误差进行纠正的过程示意图；

图11为本发明实施例提供的硅片缓冲装载装置的整体结构示意图。

具体实施方式

为了深入了解本发明，下面结合附图及具体实施例对本发明进行详细说明。

参见附图11，本发明提供的硅片缓冲装载装置包括硅片样品台2和吸盘1，吸盘1与硅片样品台2相配合，硅片样品台2具有底座3，参见附图3，还包括缓冲机构，该缓冲机构连接于底座3。该缓冲机构包括接触平台4和升降机构5，接触平台4固定连接于升降机构5，接触平台4在升降机构5的带动下升降。

其中，缓冲机构可以通过升降机构5连接于底座3。

参见附图4，该缓冲机构还可以包括三向调节机构，升降机构5连接于该三向调节机构，该缓冲机构通过该三向调节机构连接于底座3。使该缓冲机构装配时可以实现三向的微调，避免硅片样品台2或升降机构4移动距离不足造成的机械手伸入空间制约，以及加工误差导致的装配误差。