[发明专利]自适应的荧光断层成像重建方法有效
| 申请号： | 201210478434.3 | 申请日： | 2012-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN102940482A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 杨鑫;田捷;薛贞文;李勇保 | 申请（专利权）人： | 中国科学院自动化研究所 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 戎志敏 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 自适应 荧光 断层 成像 重建 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种自适应的荧光断层成像重建方法，包括：
S1利用有限元方法将扩散方程转化为线性方程；
S2建立未知的荧光光源分布与表面荧光测量值之间的线性关系；
S3计算当前正则化参数，并将残差相关系数中绝对值最大的元素选入支撑集合I；
S4将更新后的支撑集合I中当前所有元素在矩阵A中对应的列取出，组成一个矩阵，获得下一步的搜索方向；
S5计算下一步的步长并更新支撑集合；
S6根据求解的搜索方向及步长迭代获取下一步结果，并更新正则化参数；
S7判断是否达到停止条件，若达到，则重建过程结束，否则转到步骤S4。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述步骤S5包括：
计算步长并记录最小值出现的位置pos+；
计算步长并记录最小值出现的位置pos-；
比较与的大小。如果转到步骤S4；否则转到步骤S5；
将补集Ic中的pos+位置的元素加入到支撑集合I中，并使
将支撑集合I中的pos-位置的元素移除到其补集Ic，并使
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于判断是否达到停止条件的阈值为0.0001-0.01。
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