[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种光硬化性组成物及由其所形成的膜，特别涉及一种适用于形成液晶显示器(LCD)、有机电激发光显示器(Organic Electro-luminescene Display)等的基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材等的保护膜的光硬化性聚硅氧烷组成物、由此光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜，及具有此保护膜的元件。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器用集成电路的领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于光刻过程中所需图案的微细化更甚要求。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高解析及高感光度的正型感光性材料经曝光及显影后而形成，其中，以聚硅氧烷高分子为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。

日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度硬化膜的感光性树脂组成物。该组成物中使用含环氧丙烷基或丁二酸酐基的聚硅氧烷高分子，其于共聚时经开环反应形成亲水性的结构，虽然可以稀薄碱性显影液下得到高溶解性，然而，该感光性树脂组成物的感光度仍无法令业界所接受，且存在硬化速率过慢的问题。

由上述可知，目前仍有需要发展出一种高感光度且硬化速率快的感光性树脂组成物，以满足业界的需求。

发明内容

本发明的第一目的是提供一种高感光度且硬化速率快的光硬化性聚硅氧烷组成物。

于是，本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物，包含：聚硅氧烷高分子(A)、醌二叠氮磺酸酯(B)、含亚甲基烷氧基芳香族(methylene alkoxyaryl)化合物(C)及溶剂(D)；该含亚甲基烷氧基芳香族化合物(C)选自于具有式(I)的化合物、具有式(II)的化合物，或它们的组合；

在式(I)中，m表示1至4的整数；

R¹及R²为相同或不同，且分别表示C₁～C₆的烷基或-CH₂-O-X，条件是R¹及R²中至少一者为-CH₂-O-X，及X表示C₁～C₆的烷基；

R³表示氢、甲基或乙基；

R⁴表示单键或m价基团，当m=1时，R⁴表示C₁～C₆的烷基、C₆～C₁₂的环烷基或氢；当m=2，R⁴表示二价基团且选自于亚苯基、-SO₂-、当m=3，该R⁴表示三价基团且选自于当m=4，R⁴表示四价基团且选自于X¹⁰～X²⁷表示氢、卤素或C₁～C₂₀的有机基团，且当X¹²、X¹³、X¹⁴、X¹⁵、X²⁰、X²¹、X²²、X²³、X²⁴，或X²⁵为多个时，各自为相同或不同；于式(II)中，n表示10至35的整数；R⁵及R⁷为相同或不同，且分别表示氢、甲基或乙基；R⁶表示C₁～C₆的烷基。

根据本发明所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，基于该聚硅氧烷高分子(A)的含量为100重量份，该含亚甲基烷氧基芳香族化合物(C)的含量范围为3重量份～35重量份。

根据本发明所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，在式(I)中，R³表示氢。

根据本发明所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，在式(I)中，X表示C₁～C₃的烷基。

根据本发明所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，在式(I)中，R⁴表示单键、氢、-CH₃、叔丁基、-CH₂-、-C(CF₃)₂-、-C(CH₃)₂-、