[发明专利]发光二极管结构及其制造方法无效
申请号: | 201210460173.2 | 申请日: | 2012-11-15 |
公开(公告)号: | CN103579148A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 朱长信;李学麟;徐智魁;陈源泽;吴浩青 | 申请(专利权)人: | 奇力光电科技股份有限公司;佛山市奇明光电有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L27/15;H01L21/762;H01L21/60 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 结构 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种发光结构,且特别是涉及一种发光二极管(LED)结构及其制造方法。
背景技术
请参照图1,其绘示一种传统串联的发光二极管结构的局部剖视图。传统的串联发光二极管结构100包含设置在绝缘基板102的表面104上的数个串联的发光二极管芯片,例如发光二极管芯片106a与106b。相邻的二发光二极管芯片106a与106b之间以隔离沟槽122隔开。每个发光二极管芯片106a与106b包含依序堆叠在绝缘基板102的表面上的未掺杂半导体层108、第一电性半导体层110、有源层112、第二电性半导体层114与透明导电层116。
每个发光二极管芯片106a与106b具有平台结构128与第一电性半导体层110的暴露部分130。发光二极管芯片106a的第一电性电极垫118a与第二电性电极垫120a分别设于第一电性半导体层110的暴露部分130与平台结构128上。同样地,发光二极管芯片106b的第一电性电极垫118b与第二电性电极垫120b分别设于第一电性半导体层110的暴露部分130与平台结构128上。
在发光二极管结构100中,绝缘层124覆盖在隔离沟槽122内,且延伸于隔离沟槽122的开口外侧的发光二极管芯片106a的第一电性半导体层110、与发光二极管芯片106b的透明导电层116上,以电性隔离相邻的二发光二极管芯片106a与106b。而为了串联相邻的两个发光二极管芯片106a与106b,发光二极管结构100具有内连线层(interconnection layer)126。内连线层126自发光二极管芯片106a的第一电性电极垫118a上,经由第一电性半导体层110的暴露部分130上、与隔离沟槽122内的绝缘层124,而延伸至相邻发光二极管芯片106b上的绝缘层124与第二电性电极垫120b上,以电性串联相邻的发光二极管芯片106a与106b。
一般而言,由于此种串联式的发光二极管结构100利用较高的电压来加以驱动,因此驱动电路具有较高的效率。其次,相较于多个独立的发光二极管芯片,串联式的发光二极管结构100的接合垫面积小,因此发光二极管结构100具有较大的出光面积。另外,由于串联式的发光二极管结构100的电流可分散流动于每个小发光二极管芯片,因此电流分布较单一个大面积的发光二极管芯片均匀,故串联式的发光二极管结构100的发光效率较佳。
然而,由于这种传统的串联式发光二极管结构100的隔离沟槽122的底部需向下延伸至绝缘基板102的表面104。因此,隔离沟槽122的深宽比过高,导致绝缘层124的材料不易填入,而容易产生沉积不连续的情形,使得绝缘层124中易有破孔生成。故,后续沉积导电的内连线层126时,内连线层126的导电材料可能会填入绝缘层124的破孔中,而造成短路现象。
在串联式发光二极管结构100中,只要有其中一个发光二极管芯片106a或106b有短路现象,整个串联的发光二极管结构100就无法运转。因此,串联式发光二极管结构100的生产良率不佳。
此外,隔离沟槽122的深宽比过高也容易使内连线层126的沉积不连续,如此一来将造成内连线层126断线。在串联式发光二极管结构100中,只要有其中一个发光二极管芯片106a或106b有断线现象,整个串联的发光二极管结构100同样无法运转。因此,串联式发光二极管结构100的生产良率不佳。
另外,对于单一发光二极管芯片,欲检测其是否有短路现象时,可通过对此发光二极管芯片施加逆向电压,再量测是否有逆向漏电流的方式来进行检测。然而,由于串联式发光二极管结构100由多个发光二极管芯片106a与106b等互相串联而成,因此只要其中一个发光二极管芯片106a或106b有短路现象、或者其中一个发光二极管芯片106a或106b的内连线层126断线,整个串联的发光二极管结构100便无法量测到逆向漏电流。故,串联式发光二极管结构100若具有短路缺陷将无法经由量测的方式来加以确认。
发明内容
因此,本发明的一的目的在于提供一种发光二极管结构及其制造方法,其内连线层直接从相邻发光二极管芯片之一者上方的介电层中的接触孔经由介电层上方延伸至另一者上方的介电层中的接触孔。故,导电材料可不需 要填充在相邻二发光二极管芯片之间的隔离沟槽中,因而可解决内连线层断线的问题。
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