[发明专利]铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜，其特征在于，其化学式为ZrO₂:xEu³⁺，yEr³⁺，其中，0.01≤x≤0.05，0.01≤y≤0.06，ZrO₂是基质，铕元素和铒元素是激活元素。

2.根据权利要求1所述的铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜，其特征在于，所述铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的厚度为50nm～300nm。

3.一种铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

根据ZrO₂:xEu³⁺，yEr³⁺各元素的化学计量比将ZrO₂，Eu₂O₃和Er₂O₃粉体，经过混合后，在900℃～1300℃下烧结得到靶材；

将衬底装入脉冲激光沉积设备的反应室中，并将反应室的真空度设置为1.0×10^-3Pa～1.0×10^-5Pa；

调节基靶间距为45mm～95mm，衬底的温度为250℃～750℃，工作气体的流量为10sccm～40sccm，工作压强为0.5Pa～5Pa，脉冲激光能量为80W～300W，进行脉冲激光沉积得到化学式为ZrO₂:xEu³⁺，yEr³⁺的铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜，其中，0.01≤x≤0.05，0.01≤y≤0.06，ZrO₂是基质，铕元素和铒元素是激活元素。

4.根据权利要求3所述的铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的制备方法，其特征在于，所述基靶间距为60mm，衬底的温度为500℃，工作气体的流量为20sccm，工作压强为3Pa，脉冲激光能量为150W。

5.根据权利要求3所述的铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的制备方法，其特征在于，所述铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的厚度为50nm～300nm。

6.一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光层以及阴极层，其特征在于，所述发光层的材料为铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜，该铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的化学式为ZrO₂:xEu³⁺，yEr³⁺，其中，0.01≤x≤0.05，0.01≤y≤0.06，ZrO₂是基质，铕元素和铒元素是激活元素。

7.根据权利要求6所述的薄膜电致发光器件，其特征在于，所述发光层的厚度为50nm～300nm。

8.一种薄膜电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供具有阳极的衬底；

在所述阳极上形成发光层，所述发光层的薄膜为铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜，该铕铒双掺杂二氧化锆发光薄膜的化学式为ZrO₂:xEu³⁺，yEr³⁺，其中，0.01≤x≤0.05，0.01≤y≤0.06，ZrO₂是基质，铕元素和铒元素是激活元素；

在所述发光层上形成阴极。