[发明专利]一种真空断路器机构零件单键槽加工夹具有效

专利信息
申请号: 201210455560.7 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN102962692A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 束龙胜;王东;郑贵斌;殷长风;陈士保;方林山 申请(专利权)人: 安徽鑫龙电器股份有限公司
主分类号: B23Q3/00 分类号: B23Q3/00
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 宫轶琳
地址: 241008 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 断路器 机构 零件 键槽 加工 夹具
【说明书】:

技术领域

发明属于真空断路器机构零件加工设备领域,尤其涉及一种真空断路器机构零件单键槽加工夹具。

背景技术

目前,市场上用来在拉床上拉制单键槽的夹具种类很多,但专门用于真空断路器机构零件上的单键槽加工的很少。使真空断路器机构零件上的单键槽加工效率低,加工成本高。

发明内容

针对传统真空断路器机构零件上的单键槽加工不便、加工效率低的缺陷,本发明所要解决的技术问题是提供一种方便加工真空断路器机构零件上的单键槽、加工效率高的真空断路器机构零件单键槽加工夹具。

为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种真空断路器机构零件单键槽加工夹具,包括底板,还包括调节底盘,调节底盘安装在底板上,底板上设有调节底盘夹紧机构;调节底盘上设有托刀芯安装孔,并设有托刀芯装入托刀芯安装孔,并能更换托刀芯,用于多种孔径的单键槽拉制;调节底盘上设有零件定位孔。

调节底盘上设有底盘固定孔,调节底盘通过底盘固定孔安装在底板上,底盘固定孔为腰形孔,留有调节余量。

调节底盘夹紧机构包括用于压紧调节底盘的调节螺栓和调节螺栓固定块,调节螺栓固定块固接在底板上,调节螺栓与调节螺栓固定块螺纹连接。

调节底盘上设有刻度。

使用时螺栓将底板固定至卧式拉床拉刀进入面并校准水平;将调节底盘通过底盘固定孔安装到底板上;之后将调节螺栓固定块安装到底板上固定,同时将调节螺栓安装在调节螺栓固定块上,最后将所需要的托刀芯装入托刀芯安装孔中。

以弹簧拐臂为例,将需要拉的Φ25孔插入托刀芯中,正面立柱插入零件定位孔中,开始拉制首件。如尺寸或角度不对就松开调节底盘的固定螺栓,根据刻度使用调节螺栓调整角度位置。

本发明的优点在于,填补了真空断路器机构零件上的单键槽拉床加工夹具的空白,实现了在卧式拉床上加工真空断路器机构零件上的单键槽,大大提高了加工效率,该夹具能为产品很好的提供一个定位基准,保证日后生产中发生的尺寸结构变化,以达到同类零件的加工。

附图说明

图1为本发明一种真空断路器机构零件单键槽加工夹具的结构示意图;

图2为图1真空断路器机构零件单键槽加工夹具的托刀芯结构示意图;

图3为图2真空断路器机构零件单键槽加工夹具的托刀芯的右视图;

上述图中的标记均为:1、调节螺栓,2、调节底盘,3、零件定位孔,4、托刀芯,5、底板,6、底盘固定孔,7、刻度,8、调节螺栓固定块,9、弹簧拐臂。

具体实施方式

图1、图2和图3为本发明一种真空断路器机构零件单键槽加工夹具的结构示意图,包括底板5,还包括调节底盘2,调节底盘2安装在底板5上,底板5上设有调节底盘夹紧机构;调节底盘2上设有托刀芯安装孔,并设有托刀芯4装入托刀芯安装孔,并能更换托刀芯4,用于多种孔径的单键槽拉制;调节底盘2上设有零件定位孔3。

调节底盘2上设有底盘固定孔6,调节底盘2通过底盘固定孔6安装在底板5上,底盘固定孔6为腰形孔,留有调节余量,底盘固定孔6共有四个。

调节底盘夹紧机构包括用于压紧调节底盘2的调节螺栓1和调节螺栓固定块8,调节螺栓固定块8固接在底板5上,调节螺栓1与调节螺栓固定块8螺纹连接,调节螺栓1和调节螺栓固定块8共有两对,分别设置在调节底盘2相对的两侧。

调节底盘2上设有刻度7。

使用时螺栓将底板5固定至卧式拉床拉刀进入面并校准水平;将调节底盘2通过底盘固定孔6安装到底板5上;之后将调节螺栓固定块8安装到底板5上固定,同时将调节螺栓1安装在调节螺栓固定块8上,最后将所需要的托刀芯4装入托刀芯安装孔中。

使用时以弹簧拐臂9为例,将需要拉的Φ25孔插入托刀芯4中,正面立柱插入零件定位孔3中,开始拉制首件。如尺寸或角度不对就松开调节底盘2的固定螺栓,根据刻度7使用调节螺栓1调整角度位置。

采用这样的结构后,填补了真空断路器机构零件上的单键槽拉床加工夹具的空白,实现在卧式拉床上进行加工,大大提高了真空断路器机构零件上的单键槽的加工效率,该夹具能为产品很好的提供一个定位基准,保证日后生产中发生的尺寸结构变化,以达到同类零件的加工。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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