[发明专利]发光显示背板及其像素界定层的制备方法、显示装置无效
申请号: | 201210455340.4 | 申请日: | 2012-11-13 |
公开(公告)号: | CN102969333A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 姜春生 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 显示 背板 及其 像素 界定 制备 方法 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种发光显示背板及其像素界定层的制备方法,以及设置有该发光显示背板的显示装置。
背景技术
有机发光显示(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示屏由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程简单等优异特性,被认为是下一代平面显示器的新兴技术。
OLED显示背板包括基板、ITO(Indium Tin Oxide,铟锡氧化物)阳极、发光层和阴极等,其发光原理为:在电压作用下,空穴与电子在发光层复合掉到较低的能带上,放出能量与能隙相同的光子,其波长(发光颜色)取决于发光层的能隙大小。其中,发光层的制作通常采用打印技术,将液态的发光材料铺满特定的像素区域,然而现有高分辨率产品的像素尺寸一般为30μm×180μm,打印形成的液滴直径大于30μm,与像素的尺寸处于同一量级,因此,为保证打印后的液滴能顺利、平整的铺满像素区域内,同时避免液滴流到相邻像素,目前有两种方法进行处理。
第一种,采用感光性树脂(Photo Resist,PR)作为像素界定(PhotoDefine Layer,PDL)层,利用60%的CF4在CVD的环境中对其表面进行氟化处理,或者利用短波长的紫外光对PR材料进行照射,改变其表面能,从而改变PDL层表面的润湿特性,保证发光材料在打印偏离像素区域时,能形成液滴自动流入,但是此方法需增加设备的投入,导致成本增加,不利于大规模生产。
第二种,目前倾向采用双层膜结构形成倒梯形的像素界定层(PDL),但是该方案不可避免要增加掩膜版使用数量,增加曝光工序,导致制造 成本上升,不利于大规模生产。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种显示面板的像素界定层及其制备方法以及显示装置,可保证采用打印技术形成图案化的发光材料薄膜时,发光材料的液滴可以平铺于像素界定层中,避免液滴流到相邻像素区。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种发光显示背板,包括:基板和设置在所述基板上的像素界定层,所述像素界定层包括:
自下而上依次设置的感光性树脂层和透明界定层;
所述感光性树脂层和透明界定层在每一像素的对应区域均设置有开口,且所述透明界定层的开口小于所述感光性树脂层的开口,以形成下宽上窄的发光材料填充域。
优选地,所述透明界定层由疏水性材料形成。
优选地,所述透明界定层为硅氮化物薄膜。
本发明还提供一种显示装置,包括:所述的任一发光显示背板。
另一方面,本发明还提供一种发光显示背板的像素界定层的制备方法,所述发光显示背板,包括:基板和设置在所述基板上的像素界定层,所述方法包括:
依次形成感光性树脂层和透明界定层;
形成第二感光性树脂层,进行曝光使每一像素对应区域的所述第二感光性树脂层及其下方的所述感光性树脂层均感光;
剥离所述第二感光性树脂层,重新形成第二感光性树脂层,进行曝光使每一像素对应区域内重新形成的所述第二感光性树脂层感光,且,该次曝光形成的感光区域小于第一次曝光形成的感光区域;
去除每一像素对应区域感光的所述第二感光性树脂层,暴露所述透 明界定层;
进行刻蚀,使暴露出的所述透明界定层在每一像素对应区域形成开口。
所述该次曝光形成的感光区域小于第一次曝光形成的感光区域,具体为:
该次曝光形成的感光区域的中心与第一次曝光形成的感光区域的中心相重叠,且,
该次曝光形成的感光区域的形状与第一次曝光形成的感光区域的形状相同,且,
该次曝光形成的感光区域的面积小于第一次曝光形成的感光区域的面积。
进一步地,所述像素界定层制备方法还包括:
去除每一像素对应区域感光的所述感光性树脂层。
优选地,所述透明界定层由疏水性材料形成。
优选地,所述透明界定层为硅氮化物薄膜。
本发明所述发光显示背板、显示装置,采用一种新结构的像素界定层,包括:感光性树脂层和其上的透明界定层,且透明界定层在像素区域的开口小于感光性树脂层在像素区域的开口。这种结构可以保证打印时,发光材料的液滴可以平铺于像素界定层的像素区域中,避免液滴流到相邻像素区。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的