[发明专利]单晶硅片的制绒液及其制备方法

权利要求书

1.一种单晶硅片制绒液的添加剂，其特征在于其中包含的成分为：氢氧化钠、四甘醇和余量的水，其中所述水为去离子水。

2.根据权利要求1所述的单晶硅片制绒液的添加剂，其特征在于所述四甘醇与水的体积比为1-10：30，氢氧化钠与水的重量比为1-5：80。

3.根据权利要求1所述的单晶硅片制绒液的添加剂，其特征在于所述的氢氧化钠为固体粉末。

4.一种单晶硅片制绒液的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)将重量百分含量为0.5-3%的NaOH和10-15%的IPA溶于去离子水中，得到碱性制绒液；

(2)将权利要求1所述的添加剂加入步骤(1)的碱性制绒液中，得到制绒液，其中添加剂与制绒液的重量比为1-3：100。

5.根据权利要求4所述的用于单晶硅片制绒液的制备方法，其特征在于所述步骤(1)中NaOH的重量百分比为2.5%，IPA的重量百分比为12%。

6.一种单晶硅片制绒方法，其特征在于，将权利要求1或2中的添加剂加入碱性制绒液中，然后将单晶硅片浸泡在含有添加剂的制绒液中进行表面构化，反应温度为78-82℃，反应时间为800-1200s。

7.根据权利要求6所述的制绒方法，其中所述添加剂与制绒液的重量比为1-3：100。

8.根据权利要求7所述的制绒方法，其特征在于所述碱性制绒液通过将重量百分含量为0.5-3%的NaOH和10-15%的IPA溶于去离子水制成。

9.根据权利要求7的制绒方法，其特征在于所述碱性制绒液通过将重量百分含量为2.5%的NaOH和12%的IPA溶于去离子水中制成。