[发明专利]掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统

权利要求书

1.一种掩模拉伸装置，其特征在于，包括：

夹具，支撑布置于掩模框架上的掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架而形成掩模；

拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，

其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。

2.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述夹具结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。

3.根据权利要求2所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。

4.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述拉伸机构沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。

5.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，还包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。

6.根据权利要求5所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述施压部件形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。

7.根据权利要求6所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述施压部件包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。

8.一种有机发光显示装置用掩模片，其特征在于，该掩模片熔接结合于有机发光显示装置用掩模框架上而形成掩模，且端部形成有能够结合夹具的突出部，所述突出部沿相对所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向突出。

9.根据权利要求8所述的有机发光显示装置用掩模片，其特征在于，所述突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。

10.一种掩模制造系统，其特征在于，包括：

掩模框架；

布置于所述掩模框架上的掩模片；

掩模拉伸装置；

将所述掩模片结合于所述掩模框架上的结合装置，

其中，所述掩模拉伸装置包括：夹具，支撑所述掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架而形成掩模；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，

其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。

11.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述夹具结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。

12.根据权利要求11所述的掩模制造系统，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。

13.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述拉伸机构沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。

14.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，还包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。

15.根据权利要求14所述的掩模制造系统，其特征在于，所述施压部件形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。

16.根据权利要求15所述的掩模制造系统，其特征在于，所述施压部件包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。

17.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述掩模框架包括彼此并排的一对第一框架和沿垂直于所述第一框架的方向结合于所述一对第一框架，且排列成彼此分隔的两个以上的第二框架。

18.根据权利要求17所述的掩模制造系统，其特征在于，在由所述掩模框架的所述一对第一框架和彼此相邻的两个第二框架所形成的一个开口能够结合多个掩模片。

19.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述结合装置是熔接装置，以用于将所述掩模片熔接于所述掩模框架。