[发明专利]一种放射性核素去污剂的制备及使用方法无效
申请号: | 201210454230.6 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN102899206A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 林晓艳;陈帅;罗学刚 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | C11D10/02 | 分类号: | C11D10/02;C11D7/44 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 龚燮英 |
地址: | 621010 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 放射性 核素 去污剂 制备 使用方法 | ||
技术领域
本发明属于清洗去污领域的核素处理,涉及到魔芋葡甘聚糖的改性研究,以及通过研究各配方的最佳配比制备去污剂,用于镀漆金属表面的放射性核素污染物的去除。
背景技术
一批核设施陆续服役期满,其退役问题,成为核废物管理中的重要内容,役物件要求去污后能满足一般场合使用。目前对核设施去污的方法很多。例如喷砂清洗,超声波清洗,干冰清洗,化学清洗等。但是诸如这些方法都有各种缺点:比如处理会伴随着大量放射性尘埃的形成和二次污染物的生成,使得作业环境四周被严重污染,这将对操作人员的健康及环境带来严重的危害,在某些情况下,甚至会形成爆炸性混合物;超声波清洗则是把物品侵泡在溶液中,这就存在对于体积大的物件不易处理的缺点;干冰清洗与其他喷介质不同,其颗粒温度极低(-78℃),这样低的温度就是干冰清洗具有独特的热力学性能,影响粘附污垢的机械性能;和超声波清洗处理一样,化学清洗处理后产生大量的放射性污水以及难以处理大体积器件。国内外也有通过制备可剥离膜去除核设施表面放射性污染物的先例,但是绝大部分都是高分子材质例如聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、过氯乙烯(CPVC)等,不仅属于高能耗材料,并且去污后的二次处理容易产生废气,废渣等弊端。而本发明所采用的改性KGM不仅属于可自然降解材料,更因为其原料的可再生利用,显得极具优势。
魔芋在我国产量较大,尤其四川,贵州地区占总产量的50%。早在20世纪四五 十年代,日本学者就开始对魔芋葡甘聚糖(KGM)进行系统的理论和应用研究,开发出了一系列保健食品和其他可用于医疗化工等行业的产品。目前,日本的KGM开发已进入了多学科、多行业与多种技术复合的研究和开发阶段。特别是利用魔芋葡甘聚糖分子含有活泼羟基的特性,通过酯化、硝化、醚化、接枝等化学改性制备新型的魔芋葡甘露聚糖衍生物,提高其水溶胶的黏度、稳定性及各种性能,使其具有适合各种用途的新功能,从而扩大其应用范围,特别是通过共混、交联及复合改性与其他材料发生化学或物理结合,从而得到优良热塑性能的环境友好新材料,在绿色食品开发、农业、医疗保健、石油化工、日用化工、环保及建筑材料等领域都具有良好的应用和开发前景。
虽然通过魔芋葡甘露聚糖接枝改性制备可降解材料、食品添加剂等报道已屡见不鲜,但是利用改性魔芋葡甘露聚糖酯膜为基体制备材料表面放射核素去污剂配方未见报道。并且目前对核设施去污的方法很多。
发明内容
本发明的目的旨在提供一种用于去除喷漆金属表面放射性核素的去污剂及使用方法;以实现利用常见易得的魔芋葡甘露聚糖作为原料为解决镀漆金属放射性核素的去除提供一种高效安全的配方及方法。
一种放射性核素去污剂的制备方法,放射性核素去污剂组成为A组分和B组分;其中A组分为魔芋葡甘聚糖酯溶液; B组分制备方法为:有机酸、络合剂、阴离子表面活性剂、成膜助剂,香精,水按照: 2%~5%、5%~10%、5%~10%、4%~5%、4%~5%、65%~80%的质量百分比混合得到。
所述的制备方法,所述的魔芋葡甘聚糖酯溶液为10%-40%的魔芋葡甘聚糖乙酸酯或者10%-40的魔芋葡甘聚糖没食子酸酯。
所述的制备方法,所述A组分的制备方法为:在催化剂浓硫酸的催化下,通过魔芋葡甘露聚糖与醋酸酐的酯化反应得到魔芋葡甘露聚糖酯,以10%-40%的浓度溶于冰醋酸。
所述的制备方法,所述的催化剂为甲烷磺酸。
所述的制备方法,所述乙酸酐换为没食子酸。
所述的制备方法,所述有机酸是柠檬酸、草酸、没食子酸中的一种。
所述的制备方法,所述络合剂是乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠中的一种。
所述的制备方法,所述阴离子表面活性剂是脂肪醇硫酸盐、十二烷基磺酸钠中的一种。
所述的制备方法,所述成膜助剂是三聚磷酸钠、磷酸三钠卡拉胶、黄原胶中的一种或者几种混合。
所述制备方法制备的放射性核素去污剂的使用方法, 1)将组分A(浓度为25 wt %)按照0.1L/m2均匀喷洒在有放射性污染物的材料表面,1分钟后,取2倍于A组分质量的B组分均匀喷洒于其上;2)自然干燥2小时后成膜,揭膜、完成去污过程。
与现有技术相比,本发明具有以下特点和有益效果:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南科技大学,未经西南科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210454230.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型贴合机
- 下一篇:手机基板全自动双面贴膜机