[发明专利]一种间断脉冲电镀Ni-W-纳米CeF3复合镀层的方法

权利要求书

1.一种间断脉冲电镀Ni-W-纳米CeF₃复合镀层的电镀方法，包括：

间断脉冲电镀参数为：工作时间2-4ms，停止时间1-2ms，脉冲频率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均电流密度0.5-2A/dm2。

2.一种间断脉冲电镀Ni-W-纳米CeF₃复合镀层的电镀方法，其特征在于，包括如下步骤：

先对纳米CeF₃颗粒进行分散处理，并配成在55～80℃稳定的悬浊电镀液，然后对玻璃模具表面进行预处理，再将玻璃模具浸入悬浊电镀液中，在搅拌下进行间断脉冲电镀，所述悬浊电镀液包含作为主盐的钨酸盐和Ni的氨基磺酸盐、作为络合剂的柠檬酸铵、以及纳米CeF₃微粒；所述的间断脉冲电镀参数为：工作时间2-4ms，停止时间1-2ms，脉冲频率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均电流密度0.5-2A/dm2。

3.根据权利要求2所述的电镀方法，其特征在于，所述纳米CeF₃颗粒分散处理包括：先将纳米CeF₃颗粒放入丙酮中，超声分散15～20分钟，再烘干，然后加入去离子水，再加入共沉积促进剂0.1～1.0g/L、助分散剂0.3～0.6g/L，超声分散1～2小时，得纳米CeF₃颗粒分散液。

4.根据权利要求2所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液的配制过程包括：先将含Ni-W的镀液加热到电镀温度55～80℃，并加入助分散剂0.5～1.0g/L，搅拌加热15～20分钟。再将分散处理后的纳米CeF₃颗粒分散液逐滴加入到所述镀液中，同时对所述镀液进行超声搅拌，即配成在55～80℃稳定分散的悬浊电镀液。

5.根据权利要求4所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液的组分和含量为：Na₂WO₄·2H₂O 30～40g/L，Ni(NH₂SO₃)₂20～35g/L，(NH₄)₃C₆H₅O₇·H₂O53～80g/L，共沉积促进剂0.1～1.0g/L，助分散剂0.8～1.6g/L，纳米CeF₃微粒5～50g/L。

6.根据权利要求5所述的电镀方法，其特征在于，所述共沉积促进剂为乙二胺、十六烷基三甲基溴化铵、多乙烯多胺中的一种或几种的任意组合；所述助分散剂为辛基苯基聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚或壬基酚聚氧乙烯醚中的任何一种。

7.根据权利要求2所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液pH值为6～8，所述纳米CeF₃微粒的粒度为25～40nm，电镀时搅拌速度为150～250rpm，温度55～80℃，电流密度为1～8A/dm²。

8.根据权利要求4所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液pH值为6～8，所述纳米CeF₃微粒的粒度为25～40nm，电镀时搅拌速度为150～250rpm，温度55～80℃，电流密度为1～8A/dm²。

9.根据权利要求5所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液pH值为6～8，所述纳米CeF₃微粒的粒度为25～40nm，电镀时搅拌速度为150～250rpm，温度55～80℃，电流密度为1～8A/dm²。

10.根据权利要求6所述的电镀方法，其特征在于，所述悬浊电镀液pH值为6～8，所述纳米CeF₃微粒的粒度为25～40nm，电镀时搅拌速度为150～250rpm，温度55～80℃。