[发明专利]硫化锌基片多光谱增透保护薄膜无效

专利信息
申请号: 201210453338.3 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN102914807A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 董茂进;陈焘;王多书;熊玉卿;王济洲;李晨;张玲 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/10
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 马英
地址: 730000*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 硫化锌 基片多 光谱 保护 薄膜
【权利要求书】:

1.一种硫化锌基片多光谱增透保护薄膜,包括硫化锌基片,其特征在于:所述硫化锌基片的一面镀制多光谱增透膜,一面镀制多光谱保护膜。

2.根据权利要求1所述的一种硫化锌基片多光谱增透保护薄膜,其特征在于:所述增透膜的镀制材料由低折射率材料和高折射率材料组成。

3.根据权利要求2所述的一种硫化锌基片多光谱增透保护薄膜,其特征在于:所述低折射率材料为氟化钇;高折射率材料为硫化锌。

4.根据权利要求1所述的一种硫化锌基片多光谱增透保护薄膜,其特征在于:所述保护膜的镀制材料为氮氧化铪。

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