[发明专利]真空层叠系统及真空层叠成形方法有效
| 申请号： | 201210448014.0 | 申请日： | 2012-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN103101283A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 广濑智章;石川孝司 | 申请（专利权）人： | 株式会社名机制作所 |
| 主分类号： | B32B37/10 | 分类号： | B32B37/10;B32B38/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;严星铁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 层叠 系统 成形 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空层叠系统，其利用分批式真空层叠装置层叠在层叠薄膜与下侧的载体薄膜上分别被搬运的被层叠品，并从层叠有层叠薄膜的层叠品切断层叠薄膜，该真空层叠系统的特征在于，
在将层叠有层叠薄膜的层叠品载置在下侧载体薄膜上的状态下，从该层叠有层叠薄膜的层叠品切断层叠薄膜的剩余部。
2.根据权利要求1所述的真空层叠系统，其特征在于，
被层叠品是圆形的晶片，层叠薄膜是连续式层叠薄膜或被切断为矩形的层叠薄膜，与层叠有上述层叠薄膜的晶片的形状一致地切断层叠薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的真空层叠系统，其特征在于，
被切断的层叠薄膜的剩余部与下侧的载体薄膜一起被卷绕。
4.一种真空层叠成形方法，其利用分批式真空层叠装置层叠在层叠薄膜与下侧的载体薄膜上分别被搬运的被层叠品，并从层叠有层叠薄膜的层叠品切断层叠薄膜，该真空层叠成形方法的特征在于，
在将层叠有层叠薄膜的层叠品载置在下侧载体薄膜上的状态下，从该层叠有层叠薄膜的层叠品切断层叠薄膜的剩余部。
5.根据权利要求4所述的真空层叠成形方法，其特征在于，
被层叠品是圆形的晶片，层叠薄膜是连续式层叠薄膜或被切断为矩形的层叠薄膜，与层叠有上述层叠薄膜的晶片的形状一致地切断层叠薄膜。
6.根据权利要求4或5所述的真空层叠成形方法，其特征在于，
被切断的层叠薄膜的剩余部与下侧的载体薄膜一起被卷绕。
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