[发明专利]鳍结构及其制造方法

权利要求书

1.一种制造鳍结构的方法，包括：

对衬底进行构图，以在衬底的选定区域上形成高度不同的多个初始鳍，其中每个初始鳍具有5-30nm的宽度；

在衬底上形成电介质层，使得衬底上初始鳍之间的间隙中的电介质层的厚度超过初始鳍的高度从而填满所述间隙并实质上覆盖初始鳍，其中位于初始鳍顶部的电介质层厚度充分小于位于衬底上初始鳍之间的间隙中的电介质层厚度；

去除电介质层的一部分和初始鳍的一部分，使得所述电介质层与初始鳍齐平；以及

对电介质层进行回蚀，以露出初始鳍的一部分，

其中，初始鳍的露出的所述部分用作鳍，

其中，衬底在相邻初始鳍之间的部分的表面高度在衬底上有变化，所述多个初始鳍各自的顶面彼此实质上齐平，且电介质层在回蚀之后具有实质上平坦的顶面。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过高密度等离子体淀积，在衬底上形成电介质层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，位于每一初始鳍顶部的电介质层厚度小于与其相邻的初始鳍之间间距的二分之一。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，位于初始鳍顶部的电介质层厚度小于位于衬底上的电介质层厚度的三分之一。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，对电介质层进行回蚀的操作包括：

对电介质层进行平坦化处理，以露出初始鳍的顶面；以及

对电介质层进行选择性刻蚀。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，在平坦化处理中，在露出初始鳍的顶面之后，进行进一步的平坦化处理。

7.根据权利要求6所述的方法，在进一步平坦化处理之后，还包括：

对由于进一步平坦化处理而露出的初始鳍的端部进行热氧化。

8.根据权利要求5所述的方法，在对衬底进行构图之前，还包括：

在衬底上形成停止层，

其中，在对电介质层进行平坦化处理时，平坦化处理停止于该停止层。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，电介质层包括氧化物。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，在回蚀电介质层之后，每一鳍的顶面大致持平，电介质层的顶面大致持平。