[发明专利]曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其用于将电路图案曝光于形成有感光膜的被处理基板，该曝光装置的特征在于，包括：

照明光学系统，其对形成有规定的电路图案的原版照射光；和

局部曝光部，其为不同于所述照明光学系统的部件，对所述基板的局部照射光，

所述照明光学系统和所述局部曝光部一体地设置于曝光装置的内部。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

所述曝光装置包括：

基板台，其保持所述基板，并且在扫描方向上能够移动；

原版台，其保持所述原版，并且能够与所述基板台同步移动；和

投影光学系统，其将由所述照明光学系统照射的所述原版的图案投影于所述基板上，

其中，所述曝光装置一边使所述基板台上的基板和所述原版台上的原版同步移动，一边将所述原版的图案曝光于所述基板上，

所述局部曝光部包括：

多个发光元件，其在基板宽度方向上呈线状排列，并能够对被所述基板台移动的所述基板进行光照射；和

发光驱动部，其能够将所述多个发光元件中的一个或多个发光元件作为发光控制单位有选择性地进行发光驱动，

所述局部曝光部设置于所述基板台的上方。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

具有对所述局部曝光部的发光驱动部进行控制的控制部，

所述控制部，控制所述发光驱动部，使所述多个发光元件中的一个或多个发光元件作为发光控制单位有选择性地发光。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于：

所述控制部以下述方式控制所述发光驱动部：

将照射于所述基板上的照度和所述发光元件的驱动电流值的关系作为相关表进行存储，对形成于所述基板的感光膜的规定区域，基于其膜厚求出应该照射的所需照度，并且对能够向所述规定区域照射的所述发光元件，基于所述相关表，根据所述所需照度决定驱动电流值，并根据所述驱动电流值使所述发光元件发光。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于：

具有照度检测单元，其在与所述被处理基板相同高度的位置以在基板宽度方向上能够进退移动的方式设置，并对被所述局部曝光部照射的光的照度进行检测，

所述控制部将被所述照度检测单元检测出的照度和被驱动发光的所述发光元件的驱动电流值的关系作为所述相关表进行保持。

6.如权利要求4或5所述的曝光装置，其特征在于：

所述控制部，将所述多个发光元件沿着基板宽度方向分为多个发光控制组，并且针对每个所述发光控制组，将规定范围内的多个驱动电流值和基于该驱动电流值的照度存储于所述相关表中。

7.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于：

所述控制部以如下方式控制所述发光驱动部：

将通过对形成于所述被处理基板上的感光膜的规定区域的照射和显影处理而增减的膜厚的变动值，与向所述规定区域进行了照射的发光元件的驱动电流值的关系存储于相关表，基于所述相关表根据所述膜厚变动值决定驱动电流值，并根据所述驱动电流值使所述发光元件发光。

8.如权利要求2、3、4、5和7中的任一项所述的曝光装置，其特征在于：

所述局部曝光部，配置于被所述基板台移动的所述被处理基板的上方，并对形成于所述被处理基板的感光膜直接照射光。

9.如权利要求2、3、4、5和7中的任一项所述的曝光装置，其特征在于：

所述局部曝光部配置于所述原版的上方，并且对所述原版进行照射，透过所述原版的衍射光通过所述投影光学系统照射在形成于所述被处理基板的感光膜。

10.如权利要求2、3、4、5和7中的任一项所述的曝光装置，其特征在于：

在所述局部曝光部所具有的多个发光元件的下方设置有光漫射板，

从所述发光元件发出的光经由所述光漫射板向所述被处理基板发射。