[发明专利]液体喷射头及液体喷射头装置无效
申请号: | 201210442065.2 | 申请日: | 2012-09-17 |
公开(公告)号: | CN102991135A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 佐佐木隆文 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/045 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷射 装置 | ||
1.一种液体喷射头包括:
多个喷嘴;
多个加压腔室,该加压腔室被构造成与相应的喷嘴连通;
公共液体腔室,该公共液体腔室被构造成与每个加压腔室相连通,公共液体腔室和加压液体腔室中的每一个都具有预定值的负压;
多个第一连通路径,该第一连通路径被构造成在公共液体腔室和对应的加压液体腔室之间连通,该第一连通路径用作过滤器,来防止驻留在公共液体腔室中的气泡侵入对应的加压液体腔室内,该过滤器具有多个开口,每个开口所具有的开口面积都小于每个喷嘴的开口面积,所述开口用作公共液体腔室和对应的加压液体腔室之间的液体流动路径;以及
气泡排出腔室,该气泡排出腔室包括
第二连通路径,该第二连通路径被构造成与公共液体腔室连通,所述公共液体腔室具有气泡易于存留于其中的气泡存留部分,该气泡存留部分位于公共液体腔室内侧的液体流动方向下游的区域中,以及
开口部分,已经通过第二连通路径进入的气泡从该开口部分被排出,在维护-复原操作期间已进入的气泡被从所述开口部分排出。
2.如权利要求1所述的液体喷射头,其中
所述气泡排出腔室的开口部分形成在构成气泡排出腔室的壁的壁表面的一部分中。
3.如权利要求2所述的液体喷射头,其中
所述气泡排出腔室的开口部分形成在面向与具有喷嘴的喷嘴表面所面向的方向相同方向的壁表面的一部分中。
4.如权利要求1所述的液体喷射头,其中
气泡排出腔室内的第二连通路径的开口部分的开口面积大于加压液体腔室内第一连通路径的开口面积。
5.如权利要求1所述的液体喷射头,其中
两个或更多个气泡排出腔室形成在公共液体腔室内部包括有气泡存留部分的液体流动方向下游的区域中。
6.如权利要求5所述的液体喷射头,其中
气泡排出腔室的两个或多个第二连通路径相互连接。
7.如权利要求1所述的液体喷射头,其中
从公共液体腔室内侧的位于液体流动方向下游的液体腔室壁向气泡排出腔室延伸的虚拟线与气泡排出腔室的第二连通路径最外侧内壁的端部相匹配,或者
该虚拟线从液体腔室壁延伸到气泡排出腔室的第二连通路径的内部部分。
8.如权利要求1所述的液体喷射头,其中
毗邻布置的各加压液体腔室相互连接。
9.一种液体喷射头,其包括:
多个喷嘴;
多个加压腔室,该加压腔室被构造成与相应的喷嘴连通;
公共液体腔室,该公共液体腔室被构造成与每个加压腔室相连通,公共液体腔室和加压液体腔室中的每一个都具有预定值的负压;
多个第一连通路径,该第一连通路径被构造成在公共液体腔室和对应的加压液体腔室之间连通,该第一连通路径用作过滤器,来防止驻留在公共液体腔室中的异质微粒侵入对应的加压液体腔室内,过滤器具有多个开口,每个开口所具有的开口面积都小于每个喷嘴的开口面积,所述开口用作公共液体腔室和对应的加压液体腔室之间的液体流动路径;以及
异质微粒排出腔室,其包括
第二连通路径,该第二连通路径被构造成与公共液体腔室连通,所述公共液体腔室具有异质微粒易于存留于其中的异质微粒存留部分,该异质微粒存留部分位于公共液体腔室内的液体流动方向下游的区域中,以及
开口部分,已经通过第二连通路径进入的异质微粒从该开口部分被排出,在维护-复原操作期间已进入的异质微粒被从所述开口部分排出。
10.一种包括如权利要求1所述的液体喷射头的液体喷射装置。
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