[发明专利]用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置有效
| 申请号： | 201210436061.3 | 申请日： | 2012-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103265829A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 孙晟豪;金润凤;张元硕;赵容均 | 申请（专利权）人： | SK新技术株式会社 |
| 主分类号： | C09D4/00 | 分类号： | C09D4/00;C09D4/02;G02B1/11;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 经志强;王莹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 折射 含有 氟化 组合 反射 偏光 图像 显示装置 | ||
1.一种用于低折射层的涂覆组合物，其含有化学式1表示的含氟化合物
[化学式1]
在化学式1中，
R1-R4各自独立地为氢、(C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基，且R1和R2不同时为氢；
m和n各自独立地为2-10的整数；
A、B、D和E各自独立地为氢、氟或(C1-C4)烷基，前提是氟含量占A、B、D和E的总原子含量的50%或更多；以及
R1-R4的烷基和芳基可进一步被氟取代。
2.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中化学式1的含氟化合物的含量占所述用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的1-50wt%。
3.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述组合物含有化学式1的含氟化合物、具有丙烯酸不饱和基团的化合物、低折光率的颗粒、光引发剂和溶剂。
4.根据权利要求3所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述具有丙烯酸不饱和基团的化合物的含量占所述用于低折射层的涂覆组合物的总固体含量的5-40wt%。
5.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述化学式1的含氟化合物的折光率为1.28-1.40。
6.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述化学式1的含氟化合物选自具有如下结构的化合物：
7.根据权利要求1所述的用于低折射层的涂覆组合物，其中所述组合物的折光率为1.28-1.4。
8.一种抗反射膜，其含有由权利要求1-7中任一项所述的用于低折射层的涂覆组合物制成的低折射层。
9.根据权利要求8所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜含有独立涂覆于透明基底上的低折射层。
10.根据权利要求8所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜含有依次涂覆于透明基底上的硬涂覆层以及低折射层。
11.一种偏光片，其含有权利要求8所述的抗反射膜。
12.一种图像显示装置，其含有在其上表面形成的权利要求8所述的抗反射膜。
13.一种图像显示装置，其含有在其上表面形成的权利要求11所述的偏光片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SK新技术株式会社，未经SK新技术株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210436061.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
