[发明专利]一种低硫原料的加氢裂化方法有效
申请号: | 201210432654.2 | 申请日: | 2012-11-03 |
公开(公告)号: | CN103789030A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 白振民;王凤来;曾榕辉;孙立刚;王平;黄小兵 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院 |
主分类号: | C10G67/02 | 分类号: | C10G67/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原料 加氢裂化 方法 | ||
技术领域
本发明公开了一种低硫原料的加氢裂化工艺方法。
背景技术
随着国民经济的持续快速发展和环保法规的日益严格,国内外市场对清洁马达燃料和优质化工原料的需求量不断上升。
由于加氢裂化技术具有原料适应性强、产品方案灵活、液体产品收率高、产品质量好等诸多优点,多年来一直受到世界各国炼油企业的重视,占原油加工能力的比例不断增加。加氢裂化不但可以直接生产汽、煤、柴等清洁马达燃料,而且其产品中的轻、重石脑油和加氢裂化尾油还是优质的化工原料,因此,加氢裂化技术已逐步发展成为现代炼油和石化企业油、化、纤有机结合的桥梁技术,目前世界加氢裂化生产能力已达200Mt/a以上。
在加氢裂化过程中,原料油的硫、氮等杂质经过加氢精制反应后脱除,生成硫化氢和氨气,而硫化氢和氨气反应生成硫化氢铵,硫化氢铵在低温下容易结晶,堵塞换热器、空冷器等设备,从而影响装置正常运行。因此,一般都在高压分离器前注水,以洗掉硫化氢和氨气。加氢裂化催化剂为双功能催化剂,其中的金属组分必须为硫化态时才具有较高的活性,而加氢裂化反应为临氢环境,必须在硫化氢存在的条件下才能有效保持活性,否则金属硫化物就会还原成金属单质而失去活性。与加氢裂化配套的加氢精制催化剂的活性组分也需在一定浓度硫化氢存在下才能有效保持活性。由于运输等原因,某些炼油企业安排加工低硫低氮或低硫高氮原油,相应加氢裂化装置加工的蜡油就为低硫低氮或低硫高氮原料。加氢裂化装置加工低硫高氮原料时,硫化氢浓度不足以维持加氢裂化催化剂和加氢处理催化剂保持活性所需的硫化氢环境,造成催化剂逐渐失活。
现有的加氢裂化工艺中,一般是在原料油中加入含硫化合物如二硫化碳、二甲基二硫等硫化剂,硫化剂与氢气反应生成硫化氢,从而使加氢裂化催化剂和加氢处理催化剂保持在硫化氢存在的环境中。虽然硫化剂转化为硫化氢后在酸性水中汽提回收并进一步制成硫磺,但硫磺与硫化剂相比价格差距非常大,而且制作硫磺也需要进一步的工艺过程。据报道,国内某企业120万吨/年加氢裂化装置每年的注硫费用达1000万元,严重影响了企业的经济效益。同时硫化剂的加入增加了反应氢耗,也增加了装置的运转成本。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种降低加氢裂化装置运转成本的工艺方法。
本发明低硫原料的加氢裂化方法包括如下内容:
(1)低硫原料在加氢裂化反应装置中进行加氢脱硫反应、脱氮反应、芳烃饱反应和加氢裂化反应,反应流出物进入换热分离系统,换热分离系统包括高压空冷器,进入高压空冷器的物料首先与洗涤水混合;
(2)高压空冷器的流出物在高压分离器内进行气、油、水三相分离;
(3)高压分离器分离出来的气相循环使用,油相进入低压分离器,水相进入酸性水汽提塔进行处理;
(4)将溶有硫化氢的水用于步骤(1)中洗涤水。
本发明方法中,低硫原料的硫含量一般为3000μg/g以下,通常为2000μg/g以下;氮含量一般高于硫含量,通常氮含量高于硫含量100~6000μg/g。
本发明方法中,加氢裂化反应装置的工艺流程及工艺条件是本领域技术人员所熟知的。如一般情况下可以采用典型的一段串联加氢裂化工艺流程、两段加氢裂化工艺流程或单段加氢裂化工艺流程等,以及典型加氢裂化工艺流程的不同变化形式。加氢裂化的工艺条件一般为,反应温度为300~500℃,反应压力为6~20MPa,氢油体积比(标准状态下)为500:1~3000:1,液时体积空速为0.2~5.0h-1。具体工艺流程和工艺条件可以根据原料性质及产品要求具体优化确定。
本发明方法中,进入高压空冷器的物料可以是加氢裂化反应的全部物料,也可以是部分物料。
本发明方法中,酸性水汽提塔及汽提处理是本领域技术人员熟知的内容,可以采用单塔汽提流程,也可以采用双塔汽提流程。酸性水汽提塔将酸性水(酸性水包括高压分离器分离出的水相)中的氨和硫化氢分离出来,塔底为汽提净化水。
本发明方法中,溶有硫化氢洗涤水中的硫化氢来自于酸性水汽提塔顶的硫化氢。使用溶解硫化氢的水可以是普通的脱氧水,也可以使用酸性水汽提塔的塔底汽提净化水。硫化氢的溶解量至少为溶解操作条件下饱和溶解量的30%以上,优选为饱和溶解量的70%~100%。硫化氢溶于水中的操作条件一般为:温度20~80℃,优选为30~60℃,压力为1~20MPa,优选为2~10MPa。溶解设备一般常规的气液接触设备。
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