[发明专利]配线基板、发光装置、以及配线基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210430706.2 申请日: 2012-10-22
公开(公告)号: CN103066184B 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 清水浩;木村康之;荒井直 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/62;H01L25/075
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙)31239 代理人: 胡艳
地址: 日本长野县*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 配线基板 发光 装置 以及 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种配线基板、发光装置、以及配线基板的制造方法。

背景技术

以往,提出了各种发光装置。发光装置包括安装在基板上的发光元件。日本特开2003-092011号公报记载了以往(Related Art)的发光装置的例子。在该发光装置中,在形成于金属制基板的绝缘层上形成有配线图形(wiring pattern),在该配线图形上安装有发光二极管(Light EmittingDiode:LED)等发光元件。

在上述发光装置中,为了提高热传导性而较薄地形成基板。所以,发光装置整体的刚性较小。因此,因热收缩等而容易基板产生翘曲以及变形。

发明内容

本发明的一个形态提供一种配线基板,具备:基板;第1绝缘层,形成在所述基板上;多个配线图形,形成在所述第1绝缘层的第1面上;第2绝缘层,形成在所述第1绝缘层的第1面上,所述第2绝缘层覆盖所述配线图形,并且包括使相邻的所述配线图形的一部分作为焊盘露出的第1开口部;以及突出部,形成在比形成有所述第1开口部的区域更靠外侧的所述基板的外侧区域内,并且从所述基板朝所述第1绝缘层沿厚度方向竖起。

基于本发明的一个形态,能够提高配线基板的刚性。

附图说明

图1A是表示第1实施方式的配线基板的概略俯视图。

图1B是沿图1A的A-A线的配线基板的概略剖视图。

图1C是图1B所示的配线基板的局部放大剖视图。

图2是表示图1B所示的配线图形以及金属层的概略俯视图。

图3A是概略俯视图,其表示具备图1A的配线基板的发光装置。

图3B是沿图3A的B-B线的发光装置的概略剖视图。

图4A是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图4B是概略剖视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图5A以及图5B是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图5C是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图6A~图6C是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图6D是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图7A~图7C是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。

图8A以及图8B是概略剖视图,分别表示图3A的发光装置在制造过程中的状态。

图9A是表示第2实施方式的配线基板的概略剖视图。

图9B是表示图9A的配线基板的概略俯视图。

图10A以及图10B是概略剖视图,分别表示图9A的配线基板在制造过程中的状态。

图10C是概略俯视图,其表示图9A的配线基板在制造过程中的状态。

图11A是表示第3实施方式的配线基板的概略俯视图。

图11B是沿图11A的D-D线的配线基板的概略剖视图。

图12A~图12E是概略剖视图,分别表示图11A的配线基板在制造过程中的状态。

图13A~图13F是表示变形例的配线基板的概略俯视图,这些图省略了对最外层的绝缘层的图示。

图14是表示变形例的配线基板的概略剖视图。

图15A是表示发光装置的安装例的概略剖视图。

图15B是表示发光装置的安装例的概略俯视图。

图16是表示发光装置的安装例的概略剖视图。

具体实施方式

以下,参照附图,对实施方式进行说明。为了便于理解特征,在附图中,为方便起见有时会将特征的部分放大显示,各个构成要素的尺寸比例等可能与实际不同。另外,为了便于理解各个部件的截面构造,在剖视图中,省略了一部分绝缘层的剖线(hatching)。

(第1实施方式)

以下,参照图1~图8,对第1实施方式进行说明。

(配线基板的构造)

如图1B所示,配线基板1包括:基板10;绝缘层20,覆盖基板10的第1面P1;配线图形30,形成在绝缘层20上;金属层40,形成在配线图形30的一部分上;以及绝缘层50,覆盖配线图形30。该配线基板1被适用于例如发光装置。绝缘层20为第1绝缘层的一个例子,绝缘层50为第2绝缘层的一个例子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210430706.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top