[发明专利]配线基板、发光装置、以及配线基板的制造方法有效
| 申请号: | 201210430706.2 | 申请日: | 2012-10-22 |
| 公开(公告)号: | CN103066184B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
| 发明(设计)人: | 清水浩;木村康之;荒井直 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
| 主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/62;H01L25/075 |
| 代理公司: | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙)31239 | 代理人: | 胡艳 |
| 地址: | 日本长野县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 配线基板 发光 装置 以及 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种配线基板、发光装置、以及配线基板的制造方法。
背景技术
以往,提出了各种发光装置。发光装置包括安装在基板上的发光元件。日本特开2003-092011号公报记载了以往(Related Art)的发光装置的例子。在该发光装置中,在形成于金属制基板的绝缘层上形成有配线图形(wiring pattern),在该配线图形上安装有发光二极管(Light EmittingDiode:LED)等发光元件。
在上述发光装置中,为了提高热传导性而较薄地形成基板。所以,发光装置整体的刚性较小。因此,因热收缩等而容易基板产生翘曲以及变形。
发明内容
本发明的一个形态提供一种配线基板,具备:基板;第1绝缘层,形成在所述基板上;多个配线图形,形成在所述第1绝缘层的第1面上;第2绝缘层,形成在所述第1绝缘层的第1面上,所述第2绝缘层覆盖所述配线图形,并且包括使相邻的所述配线图形的一部分作为焊盘露出的第1开口部;以及突出部,形成在比形成有所述第1开口部的区域更靠外侧的所述基板的外侧区域内,并且从所述基板朝所述第1绝缘层沿厚度方向竖起。
基于本发明的一个形态,能够提高配线基板的刚性。
附图说明
图1A是表示第1实施方式的配线基板的概略俯视图。
图1B是沿图1A的A-A线的配线基板的概略剖视图。
图1C是图1B所示的配线基板的局部放大剖视图。
图2是表示图1B所示的配线图形以及金属层的概略俯视图。
图3A是概略俯视图,其表示具备图1A的配线基板的发光装置。
图3B是沿图3A的B-B线的发光装置的概略剖视图。
图4A是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图4B是概略剖视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图5A以及图5B是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图5C是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图6A~图6C是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图6D是概略俯视图,其表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图7A~图7C是概略剖视图,分别表示图1A的配线基板在制造过程中的状态。
图8A以及图8B是概略剖视图,分别表示图3A的发光装置在制造过程中的状态。
图9A是表示第2实施方式的配线基板的概略剖视图。
图9B是表示图9A的配线基板的概略俯视图。
图10A以及图10B是概略剖视图,分别表示图9A的配线基板在制造过程中的状态。
图10C是概略俯视图,其表示图9A的配线基板在制造过程中的状态。
图11A是表示第3实施方式的配线基板的概略俯视图。
图11B是沿图11A的D-D线的配线基板的概略剖视图。
图12A~图12E是概略剖视图,分别表示图11A的配线基板在制造过程中的状态。
图13A~图13F是表示变形例的配线基板的概略俯视图,这些图省略了对最外层的绝缘层的图示。
图14是表示变形例的配线基板的概略剖视图。
图15A是表示发光装置的安装例的概略剖视图。
图15B是表示发光装置的安装例的概略俯视图。
图16是表示发光装置的安装例的概略剖视图。
具体实施方式
以下,参照附图,对实施方式进行说明。为了便于理解特征,在附图中,为方便起见有时会将特征的部分放大显示,各个构成要素的尺寸比例等可能与实际不同。另外,为了便于理解各个部件的截面构造,在剖视图中,省略了一部分绝缘层的剖线(hatching)。
(第1实施方式)
以下,参照图1~图8,对第1实施方式进行说明。
(配线基板的构造)
如图1B所示,配线基板1包括:基板10;绝缘层20,覆盖基板10的第1面P1;配线图形30,形成在绝缘层20上;金属层40,形成在配线图形30的一部分上;以及绝缘层50,覆盖配线图形30。该配线基板1被适用于例如发光装置。绝缘层20为第1绝缘层的一个例子,绝缘层50为第2绝缘层的一个例子。
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