[发明专利]保持接口单元内部洁净度装置

说明书

技术领域

本发明属于半导体行业晶圆涂胶显影生产领域，具体地说是一种保持接口单元内部洁净度装置。

背景技术

在半导体前道工艺晶圆的生产过程中，对生产环境洁净度和晶圆产能要求都非常严格。一般情况下净化间洁净度为100级，而TRACK(涂胶显影设备)内部洁净度要求为1级；同时TRACK产能在90nm工艺中主流指标为150WPH(Wafer per Hour)。在TRACK和光刻机实际生产中，会经常因设备内部故障或设备定期维护而导致设备停机。这种状态下，作为TRACK与光刻机连接的接口单元需要被移出以便操作人员工作。现阶段接口单元与TRACK或光刻机连接侧面的设计为开放式，在被移出时接口单元直接暴露于生产环境中而导致内部洁净度下降，在恢复生产前为保证洁净度指标需进行内部送风除尘。送风除尘操作一般需耗时30-40分钟，这种操作既消耗能源又浪费了生产时间，对现在要求的高速高质生产模式构成了一定的阻碍。

发明内容

针对上述问题，本发明的目的在于提供一种保持接口单元内部洁净度装置，该保持接口单元内部洁净度装置有效地解决接口单元两侧开口部直接暴露于生产环境中而导致内部洁净度下降，大幅提升实际生产的效率。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种保持接口单元内部洁净度装置，所述装置设置于与TRACK及光刻机连接的接口单元两侧开口部，包括遮蔽挡板和与其连接的驱动装置，所述遮蔽挡板通过驱动装置驱动关闭或打开接口单元与TRACK及光刻机相连接的开口部。

所述驱动装置设置于接口单元的框架的内壁上。所述遮蔽挡板与接口单元的开口部框架内壁结合处设置密封装置。所述驱动装置与TRACK主机连接、并由TRACK主机控制其动作。

所述设置于接口单元与光刻机相连接处的装置，其遮蔽挡板包括下板，下板与驱动装置连接、并通过驱动装置驱动关闭或打开接口单元与光刻机相连接的开口部。

所述设置于接口单元与TRACK连接处的装置，其遮蔽挡板包括上板和下板I，所述上板和下板I分别设置于接口单元开口部的框架钣金开口的上下两端、并分别与独立的驱动装置连接，所述上板和下板I通过各自连接的驱动装置驱动、同时相向运动或反相运动，实现关闭或打开接口单元与TRACK连接的开口部。

接口单元框架内设有防止上板脱落的支撑装置。所述支撑装置包括气缸III和气缸架III，其中气缸架III设置于接口单元框架的内壁上，所述气缸III设置于气缸架III上、并一端设有导杆，所述导杆伸出、并设置于上板的下部，防止上板意外脱落。

所述框架的内壁两侧设有导轨，所述上板和下板I的两侧通过滑块在导轨上滑动。所述驱动装置包括气缸和气缸架，其中气缸通过气缸架安装在接口单元框架的内壁上。

本发明的优点及有益效果是：

1.本发明通过自动开闭接口单元开口部，实现了生产维护中对接口单元内部空气洁净度的要求，很大程度上节省了再处理时间，提高产能节省经费。

2.本发明具有结构简单，实现方便，价格低廉等特点。

3.本发明能够实现接口单元开口部自动开闭，根据实际情况的正常生产和维护可实时实现自动切换。

附图说明

图1为本发明在接口单元与光刻机连接处开口部的装置结构示意图；

图2为本发明在接口单元与TRACK连接处开口部的装置结构示意图；

图3为图2中II处放大图；

图4为图2中I处放大图；

其中：1为框架，2为框架钣金开口I，3为进气管I，4为出气管I，5为气缸I，6为气缸架I，7为下板I，8为滑块，9为上板，10为气缸架II，11为气缸II，12为进气管II，13为出气管II，14为气缸II，15为气缸固定板，16为进气管III，17为出气管III，18为框架钣金开口II，19为进气管IV，20为出气管IV，21为气缸IV，22为气缸架IV，23为下板II。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。

本发明设置于与TRACK及光刻机连接的接口单元两侧开口部，包括遮蔽挡板和与其连接的驱动装置，所述遮蔽挡板通过驱动装置驱动关闭或打开接口单元与TRACK及光刻机相连接的开口部，所述遮蔽挡板与接口单元开口部的框架内壁结合处设置密封装置。所述驱动装置设置于接口单元的框架1的内壁上，驱动装置与TRACK主机连接、并由TRACK主机控制其动作。所述驱动装置可采用气缸装置或电机。TRACK主机为现有技术。