[发明专利]掩模对准光学系统

说明书

技术领域

本发明涉及为了制造有机EL设备而用于相对于基板配置金属掩模的掩模对准，尤其涉及利用了掩模的框架的一部分的掩模对准光学系统。

背景技术

作为制造有机EL（电致发光）设备的有力的方法有真空蒸镀法。在该真空蒸镀中，需要将基板和掩模对准。另外，近年来，对于有机EL设备，其处理基板的大型化的风浪不断涌来，例如，G6世代的基板尺寸是1500mm×1800mm，随之，在基板尺寸的大型化的同时，当然掩模也大型化，其尺寸甚至达到了2000mm×2000mm左右。尤其是在使用钢制的掩模的有机EL设备中，其重量还达到了300kg，以往，将基板及掩模水平放置后使其对位。再者，该现有技术例如已经在下述专利文献1中公开。

专利文献1：日本特开2006－302896号公报

在有机EL蒸镀装置中，用金属掩模将发光材料蒸镀在基板上，此时，随着设备的大型化，需要高精度的对准系统。

另外，有机EL蒸镀设备在使用金属掩模和作为目标的基板上的标记进行对准之后，在将该金属掩模和基板紧贴的状态下进行蒸镀。此时的配置按以下顺序进行，首先配置蒸镀源，其次配置掩模，之后配置基板，可是此时，尤其是由于蒸镀源的特性，不能在该蒸镀源和掩模之间设置固定机构。

另外，由于上述的程序全部都在真空室内的高真空中进行，因此不可能配置复杂的机构。

而且，在以往的蒸镀装置的对准系统中存在以下的问题点。

1．图案效率

以往，由于在图案的蒸镀区域内配置有对准标记（图案），因此作为用于制造产品的区域的产品图案区域缩小，进而存在该对准标记（图案）被蒸镀的问题。

2．透射照明

在用于对准的照明方面，有所谓的“反射方式”和“透射方式”，一般来说透射方式更好，但由于上述蒸镀源和掩模之间的制约，不能配置光学系统，因此多采用反射方式。再者，作为装置，无论是反射方式还是透射方式，根据状况分别使用是最理想的。

3．反射照明

如果将对准标记配置在蒸镀区域之外，则掩模框架和该掩模重叠，因此产生在掩模框架的背面反射中很难识别该对准标记的问题点。

发明内容

于是，本发明是鉴于上述现有技术的问题点而做成的，更具体地说，其目的尤其在于提供在采用透射照明方式的同时，能够有效应用掩模的掩模对准光学系统。

为了达到上述目的，根据本发明，首先提供一种掩模对准光学系统，在将蒸镀材料蒸镀到基板上的真空蒸镀室中，进行该基板与由金属薄膜构成的金属掩模的对准，具备固定框架和载物台，所述固定框架形成在所述金属掩模的周围，且在其四角上形成有“L”字状的导光路，所述载物台在表面上搭载所述基板，且在其四角上在与所述固定框架的导光路相对应的位置上形成有“L”字状的导光路，利用设在所述金属掩模的一部分上的金属掩模标记和设在所述基板的一部分上的对准标记的由透射照明形成的像，进行与金属掩模的对准，所述透射照明是由导入到形成在所述固定框架上的导光路及形成在所述载物台上的导光路内的光形成的。

进而，在本发明中，在以上记载的掩模对准光学系统中，最好形成在所述固定框架的一部分上的“L”字状的导光路的一端在所述固定框架的上边或下边设置开口，形成在所述载物台的一部分上的“L”字状的导光路的一端在所述载物台的上边或下边设置开口。而且，最好在所述真空蒸镀室的外部设有：向所述导光路入射光的光源；以及用于拍摄由从所述导光路射出的所述对准标记的透射照明形成的像的摄像机部。

本发明具有以下有益效果。

根据上述本发明，能够得到如下实用性良好的技术效果，即，能够提供利用透射照明方式而性能良好，且能够有效应用掩模的掩模对准光学系统。

附图说明

图1是表示采用本发明的掩模对准光学系统的有机EL设备制造装置的内部结构的一例的立体图。

图2是表示构成上述装置的对准部的掩模部的详细结构的一例的局部放大立体图。

图3是表示构成上述装置的对准部的掩模部的详细结构的一例的局部放大立体图。

图4是用于说明包括上述掩模部和载物台部的掩模对准系统的详细情况的局部放大剖视图。

图5是表示用摄像元件同时拍摄形成在基板的表面上的对准标记和金属掩模的画面的一例的图。

图中：