[发明专利]一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法

权利要求书

1.一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤： 

1）在反应腔中通入金属氧化物的前驱体和水蒸气发生反应得到反应产物，采用原子层沉积法将反应产物同时沉积在钙钠玻璃基底的两个表面得到高折射率氧化物薄膜，沉积过程中钙钠玻璃基底的温度为25~300℃，反应腔中沉积室的气压为100~150Pa；

2）以硅源、溶剂及催化剂为原料，配制硅溶胶；

3）采用涂覆技术将步骤2）中配制得到的硅溶胶涂覆于步骤1）中得到的钙钠玻璃基底的表面，从而在高折射率氧化物薄膜上再形成SiO₂薄膜；

4）最后对钙钠玻璃表面的高折射率氧化物薄膜和SiO₂薄膜进行固化处理，得到具有耐久性双层减反射薄膜的钙钠玻璃。

2.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤1）中，所述的金属氧化物的前驱体为异丙醇钛、二甲基锌、四氯化锆、三甲基铝中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤1）和步骤3）中，所述的高折射率氧化物为TiO₂、ZnO、ZrO₂、Al₂O₃中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤2）中，所述的硅源为正硅酸甲酯、正硅酸乙酯中的一种或两种，所述的溶剂为乙醇、异丙醇、乙二醇、乙醇胺、二乙醇胺中的一种或几种，所述的催化剂为盐酸、氨水中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤2）中，所述的硅源、溶剂与催化剂的摩尔比为1 : 40~90 : 0.005~0.01。

6.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤3）中，所述的固化处理的温度为150~350℃，时间为0.5~2小时。

7.根据权利要求1所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤3）中，所述的涂覆技术为提拉法、旋涂、喷涂、辊涂中的一种。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤1）中，所述的高折射率氧化物薄膜的厚度为10~50nm。

9.根据权利要求1~7中任一项所述的一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法，其特征在于：在步骤3）中，所述的SiO₂薄膜的厚度为80~150nm。