[发明专利]一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法

权利要求书

1.一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：具体步骤如下：

步骤一：金属基片的制作：在表面光滑的基片上用等离子溅射金属涂层后，再经过等离子清洗处理，备用；

步骤二：围堰的打印与制作：采用绘图软件绘制围堰形状并打印到菲林掩膜上，将得到的打印有围堰形状的菲林掩膜中心掏空，清洗干净，吹干待用；

步骤三：将步骤二所得的围堰放置于步骤一所得的金属基片上，向围堰内注入紫外固化光胶；

步骤四：将空白的菲林掩膜剪裁成围堰大小，覆盖于步骤三注有紫外固化光胶的围堰上，再用光刻机紫外固化成型，形成基底层；

步骤五：重复步骤三，将印有微流控芯片通道形状的菲林掩膜覆盖于围堰上，再通过光刻机紫外固化形成芯片有通道的中间层；

步骤六：重复步骤三，将印有注液孔的菲林掩膜覆盖于围堰上，再通过光刻机紫外固化形成带孔的盖片层；

步骤七：将步骤五和步骤六制得的中间层和盖片层从金属基片上取下后，用有机试剂清洗，以便去除未反应的紫外固化光胶；

步骤八：将清洗过的中间层对准叠放在步骤四所得的基底层上，通过光刻机紫外光照键合；再将盖片层对准放在之前已经键合好的基底层和中间层上，再通过光刻机紫外光照键合，即形成所需要的微流控芯片。

2.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：根据具体需要，还可以用两性聚合物对菲林掩膜表面进行改性，两性聚合物包括：聚乙二醇，吐温，triton；根据具体需要还可以对芯片进行老化处理，处理方法为：50℃下老化24小时待用。

3.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：步骤一所述的表面光滑的基片为能溅射金属的基片，包括硅片、抛光玻璃片、载玻片；金属层为铬、镍、金、铂金等附着力强的20-500纳米的薄层；等离子清洗时间1-10分钟。

4.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：步骤三所述的围堰固定于金属基片上时，采用微量紫外固化胶固定，紫外固化时间10-30秒。

5.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：步骤六所述注液孔的数量至少为2个；注液孔的位置需在中间层的通道上。

6.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：步骤七所述的有机试剂包括丙酮或乙腈与酒精的混合液，混合浓度(体积比)丙酮：酒精100％-20％；乙腈：酒精30-100％。

7.如权利要求1所述的一种利用紫外固化光胶制作微流控芯片的方法，其特征在于：步骤八所述的光照键合时间为15-300秒。