[发明专利]氧化物薄膜的图案化制程

权利要求书

1.一种氧化物薄膜的图案化制程，包括：

将阻挡层组合物覆盖在基材上以形成图案化的阻挡层，其中该阻挡层组合物包含无机成分以及有机粘着剂，该无机成分与该有机粘着剂的重量比为50-98:2-50；

将氧化物薄膜形成于该图案化的阻挡层及该基材上，其中该阻挡层的厚度（D1）与该氧化物薄膜的厚度（D2）比（D1/D2）范围为5～2000；以及

剥除该阻挡层及该阻挡层上的氧化物薄膜，留下该基材上的氧化物薄膜。

2.如权利要求1所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中阻挡层组合物的固含量包括50-98wt%的无机成分。

3.如权利要求1所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中该无机成分包括：金属、金属氧化物、或上述的组合。

4.如权利要求1所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中该氧化物薄膜包含金属氧化物。

5.如权利要求4所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中该金属氧化物包括氧化锡、氧化锌、氧化铟锡、氟掺杂氧化锡、锂-氟掺杂氧化锡、氧化硅、氧化铟镓锌(IGZO)、或上述的组合。

6.如权利要求1所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中该氧化物薄膜包含多层的堆迭结构。

7.如权利要求1所述的氧化物薄膜的图案化制程，其中该氧化物薄膜沉积的制程温度为100℃～550℃。