[发明专利]一种低蚀刻的去除光阻蚀刻残留物的清洗液

权利要求书

1.一种低蚀刻的去除光阻蚀刻残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液由醇胺，醇醚，邻苯三酚和/或其衍生物，没食子酸和/或其酯和水组成；

其中，

所述醇胺的质量百分比含量为40-70wt％，所述醇醚的质量百分比含量为10-40wt％，所述邻苯三酚和/或其衍生物的质量百分比含量为0.1-10wt％，所述没食子酸和/或其酯的质量百分比含量为0.1-5wt％，所述水的质量百分比含量为10-30wt％。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述醇胺的质量百分比含量为50-65wt％，所述醇醚的质量百分比含量为15-30wt％，所述邻苯三酚和/或其衍生物的质量百分比含量为0.5-5wt％，所述没食子酸和/或其酯的质量百分比含量为0.5-3wt％，所述水的质量百分比含量为15-25wt％。

3.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的醇胺选自单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的醇醚选自二乙二醇单烷基醚和二丙二醇单烷基醚。

5.如权利要求4所述的清洗液，其特征在于：所述的二乙二醇单烷基醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和/或二乙二醇单丁醚；所述的二丙二醇单烷基醚为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和/或二丙二醇单丁醚。

6.如权利要求4所述的清洗液，其特征在于：所述的醇醚为二丙二醇单烷基醚。

7.如权利要求6所述的清洗液，其特征在于：所述的醇醚为二丙二醇单甲醚。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的邻苯三酚和/或其衍生物选自邻苯三酚、5-甲基邻苯三酚、5-甲氧基邻苯三酚、5-叔丁基邻苯三酚和5-羟甲基邻苯三酚中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的没食子酸和/或其酯选自没食子酸、没食子酸甲酯、没食子酸乙酯、没食子酸丁酯、没食子酸辛酯、没食子酸月桂酯和1-没食子酸甘油酯中的一种或多种。