[发明专利]一种SiC衬底转移石墨烯的退火工艺及制做的器件无效

专利信息
申请号: 201210408199.2 申请日: 2012-10-22
公开(公告)号: CN102931077A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 王东;宁静;韩砀;闫景东;柴正;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L21/324 分类号: H01L21/324
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710065 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 sic 衬底 转移 石墨 退火 工艺 制做 器件
【权利要求书】:

1.一种SiC衬底转移石墨烯的退火工艺,其特征在于,

采用高温退火的方式,修复衬底转移过程中产生的石墨烯缺陷,进一步去除转移过程中没能去除或是新引进的杂质;同时高温退火,在石墨烯中引入禁带。

2.如权利要求1所述的退火工艺,其特征在于,所述退火工艺实现步骤如下:

(1)将铜箔放在反应室内,向反应室通入H2,对铜箔进行处理;

(2)向反应室通入Ar和CH4

(3)在Fe(NO4)3水溶液中浸泡30-60min,使用GaN衬底打捞起来,在空气中加热60min,温度保持在150-200℃;

(4)放入丙酮中浸泡24小时彻底去除残留的PMMA;

(5)分别用无水乙醇和去离子水漂洗,高纯N2吹干;

(6)反应室抽真空,再通入Ar气,气压0.01-0.1Torr,温度上升到100-200℃,保持30-40min;

(7)再通入Ar和H2的混合气,退火。

3.如权利要求1所述的退火工艺,其特征在于,将铜箔放在反应室内,向反应室通入H2,对铜箔进行处理,流量1-20sccm,温度900-1000℃,时间20-60min,气压1-50Torr。

4.如权利要求1所述的退火工艺,其特征在于,向反应室通入Ar和CH4,保持Ar和CH4的流量比为10∶1-2∶1,Ar流量20-200sccm,CH4流量1-20sccm,气压维持在0.1-1Torr,温度900-1100℃,升温和保持时间共20-60min;

5.如权利要求1所述的退火工艺,其特征在于,在0.05g/ml-0.15g/mlFe(NO4)3水溶液中浸泡30-60min,使用GaN衬底打捞起来,在空气中加热60min,温度保持在150-200℃。

6.如权利要求1所述的退火工艺,其特征在于,再通入Ar和H2的混合气,混合比例为10∶1-1∶1,气压维持在0.01-0.1Torr,退火温度为1000-1100℃,退火时间1-2h。

7.一种利用权利要求1所述的SiC衬底转移石墨烯的退火工艺制做的器件。

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