[发明专利]光学玻璃、光学元件及预成型品有效
申请号: | 201210407058.9 | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN103058515A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 吉川健 | 申请(专利权)人: | 株式会社小原 |
主分类号: | C03C3/112 | 分类号: | C03C3/112 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 光学 元件 成型 | ||
技术领域
本发明涉及光学玻璃、光学元件及预成型品。
背景技术
光学设备的透镜系统通常组合具有不同光学性质的多片玻璃透镜进行设计。近年来,为了进一步扩展多样化的光学设备的透镜系统设计的自由度,将以往未使用的具有光学特性的光学玻璃作为球面及非球面透镜等光学元件使用。尤其是,当进行光学设计时,出于减小光学系统整体中的色差的目的,而开发了折射率或分散倾向不同的光学玻璃。
在制作光学元件的光学玻璃中,特别是对可实现光学元件的轻质化及小型化的、具有高折射率(nd)和高阿贝数(vd)的玻璃的需求非常强烈。作为上述高折射率低分散玻璃,例如,作为具有1.50以上1.60以下的折射率、具有60以上80以下的阿贝数的光学玻璃,已知有以专利文献1~4为代表那样的玻璃。
[专利文献1]日本特开平01-219037号公报
[专利文献2]日本特开2007-099525号公报
[专利文献3]日本特开2009-256149号公报
[专利文献4]日本特开2010-235429号公报
发明内容
近年来,安装到投影仪、复印机、激光打印机及广播用器材等光学设备中的光学元件在更严苛的温度环境下的使用增加。例如对于投影仪,为了适应小型化及高分辨率化的要求,需要使用高亮度的光源及经高精密化的光学系统。特别是使用高亮度的光源时,由于光源发出的热的影响,使用构成光学系统的光学元件时的温度易发生较大变动,其温度达到100℃以上的情况也比较多。此时,使用经高精密化的光学系统时,因温度的变动而导致对光学系统的成像特性等的影响变大,无法忽视,因此要求构成不发生温度变动导致的光学特性变动的光学系统。
另外,如具有高分辨率的光学设备的光学系统那样,在对折射率要求极高精度的光学系统中,也存在不能忽视使用温度对成像特性等的影响的情况。
然而,就如专利文献1~4中记载那样的以往的光学玻璃而言,温度变动导致的光学特性的变动大。也就是说,希望开发出在具有高折射率和高阿贝数的基础上、不发生温度变动导致的光学特性的变动的光学玻璃。
本发明的目的在于解决上述课题。
即,本发明的目的在于提供可在更宽温度范围内、得到所期望的成像特性等光学特性的光学玻璃、和使用该光学玻璃的预成型品及光学元件。
本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究,从而完成了本发明。具体而言,本发明提供:
(1)一种光学玻璃,其中,含有P5+、Al3+及Mg2+作为阳离子成分,含有O2-及F-作为阴离子成分;
相对折射率(589.29nm)的温度系数(20~40℃)为-6.0×10-6(℃-1)以上。
(2)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,含有20~55%的P5+、1~20%的Al3+及0.1~30%的Mg2+。
(3)如(1)或(2)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,
Ca2+的含有率为0~30%,
Sr2+的含有率为0~30%,
Ba2+的含有率为0~30%。
(4)如(1)~(3)中任一项所述的光学玻璃,其中,碱土金属的总含有率(R2+:阳离子%)为30~70%。
(5)如(1)~(4)中任一项所述的光学玻璃,其中,Mg2+含有率及Ca2+含有率的总计(阳离子%)为7.5~50%。
(6)如(1)~(5)中任一项所述的光学玻璃,其中,Mg2+含有率及Ca2+含有率的总计相对于碱土金属的总含有率(R2+:阳离子%)的比例((Mg2++Ca2+)/R2+)为0.25以上。
(7)如(1)~(6)中任一项所述的光学玻璃,其中,以阴离子%(摩尔%)表示,
F-的含有率为20~70%,
O2-的含有率为30~80%。
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