[发明专利]具有被吡啶基取代的噻二唑环结构的化合物和有机电致发光器件无效
申请号: | 201210401122.2 | 申请日: | 2007-03-20 |
公开(公告)号: | CN103121997A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 横山纪昌;秋贞徹;草野重 | 申请(专利权)人: | 保土谷化学工业株式会社 |
主分类号: | C07D417/14 | 分类号: | C07D417/14;C07D471/04;C09K11/06;H01L51/54 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人: | 陈波;高永懿 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 吡啶 取代 噻二唑环 结构 化合物 有机 电致发光 器件 | ||
本申请是基于2007年3月20日提交的申请号为200780010573.0的名为“具有被吡啶基取代的噻二唑环结构的化合物和有机电致发光器件”的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种适用于有机电致发光(EL)器件(其为适用于各种显示系统的自发光器件)的化合物,并且还涉及一种器件。更具体而言,本发明涉及一种具有被取代的吡啶基取代的噻二唑环结构的化合物以及使用该化合物的有机EL器件。
背景技术
由于有机EL器件是自发光器件,因此与液晶器件相比,它们明亮、具有优异的可视性、并且能够提供清晰的显示,目前人们已经对它们进行了积极的研究。
在1987年,Eastman Kodak Co.的C.W.Tang等通过开发一种将各种功能分别赋予材料的多层结构器件,使得使用有机材料的有机EL器件投入实际应用中。他们将能够输送电子的荧光材料和能够输送空穴的有机物质层叠在一起,并向荧光材料层中注入两种电荷以使该层发光,从而获得在10V或更小的电压下的1,000cd/m2或更高的高亮度(例如,参见专利文献1和专利文献2)。
专利文献1:JP-A-8-48656
专利文献2:日本专利No.3,194,657
迄今为止,为将有机EL器件投入实际应用,己经进行了诸多改进,并且通过其中将阳极、空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层和阴极依次设置在基板上从而进一步细分各种功能的电致发光器件,可以实现高效率和耐久性(例如参见非专利文献1)。
非专利文献1:日本应用物理学会第9次研讨会预稿集(Preprintsfor 9th Workshop ofJapan Applied Physics),第55至61页(2001)
此外,为了进一步提高发光效率,还对三重态激子的利用进行了尝试,并对发磷光材料的利用进行了研究(例如参见非专利文献2)。
非专利文献2:日本应用物理学会第9次研讨会预稿集(Preprintsfor 9th Workshop ofJapan Applied Physics),第23至31页(2001)
通过用荧光材料或磷光材料对通常称作主体材料的具有电子输送性能的化合物进行掺杂,可以制备发光层。如上述研讨会预稿集中所述,有机EL器件中有机材料的选择会显著影响器件的各种性能,例如效率和耐久性。
在有机EL器件中,从两个电极注入的电荷在发光层中重新结合,从而获得发光。然而,由于空穴的迁移速度比电子的迁移速度更高,因此由空穴部分穿过发光层而导致的效率降低成为问题。因此需要具有高电子迁移率的电子输送材料。
尽管通常也将典型的发光材料三(8-羟基喹啉)铝(下文简称为Alq3)用作电子输送材料,但是其电子迁移速度被认为较低。因此,已提出了2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑(下文简称为PBD)等作为具有高迁移率的材料(例如参见非专利文献3)。
非专利文献3:Jpn.J.Appl.Phys.,27,L269(1988)
然而,已经指出PBD在处于薄膜状态时稳定性不佳,例如容易发生结晶,因此人们已经提出了多种噁二唑衍生物(例如参见专利文献3至5)。
专利文献3:日本专利No.2,721,442
专利文献4:日本专利No.3,316,236
专利文献5:日本专利No.3,486,994
与PBD相比,这些电子输送材料的稳定性提高,但人们仍认为这种提高是不够的。从平衡空穴迁移率的角度考虑,电子迁移率仍是不够的。因此,在许多情况下具有良好稳定性的Alq3被用作电子输送材料。然而,仍未获得令人满意的器件特性。
另外,作为防止空穴部分穿过发光层从而提高电荷在发光层中重新结合的可能性的措施,存在一种插入空穴阻挡层的方法。作为空穴阻挡材料,迄今为止提出了三唑衍生物(例如参见专利文献6)、浴铜灵(下文中简称为BCP)、铝的混配配合物(BAlq)(例如参见非专利文献2)等。
专利文献6:日本专利No.2,734,341
然而,这些材料均缺乏薄膜稳定性或阻挡空穴的作用不足。目前通常使用的空穴阻挡材料为BCP。然而,认为这种化合物不是足够稳定的材料,使得其被认为不足以起到空穴阻挡层的作用。因此,仍无法获得令人满意的器件特性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于保土谷化学工业株式会社,未经保土谷化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210401122.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。