[发明专利]一种织物烫画装置有效

专利信息
申请号: 201210395667.7 申请日: 2012-10-18
公开(公告)号: CN102991111A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 林秀云 申请(专利权)人: 吴江市元通纺织品有限公司
主分类号: B41F16/02 分类号: B41F16/02
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王凌霄
地址: 215228 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 织物 装置
【说明书】:

技术领域

 本发明涉及纺织品加工机械领域,特别地,是一种应用于织物表面烫画的装置。

背景技术

烫画技术在印刷界的运用十分广泛,包括当前的服装烫花和金属照片都是运用烫画技术完成的图案效果。烫画理论其实非常容易理解,即将影像输出在转印纸上,再以适当的温度与压力转印在不同材质上的过程。局部烫印十分简单,难就难在大面积、均匀、不脱落的烫印。由于不同的烫画机,所拥有的热转印加热系统也不一样,因此,这种大面积烫印对技术的要求很高。温度是否均匀、压力是否刚好、都将关系着烫画的品质。在烫印过程中,温度与压力都要适中,温度或压力太低无法附著,温度或压力太高图案又会晕花甚至烧焦。

烫画的关键在于图案的粘接面的粘胶剂是否与需要烫画织物面具有足够大的接触面,加热和加压的目的就是使粘胶剂与所述植物面纤维粘连,由于进行烫画的装置无法准确的将热量传递至粘胶剂上,因此造成了烫画的困难。

发明内容

为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种织物烫画装置,该织物烫画装置能够使图案均匀牢固的粘连于织物上。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

该织物烫画装置包括固定图案的第一基板和固定织物的第二基板,所述第一基板和第二基板垂直且相互平行设置,所述第一基板与第二基板之间设置有粘胶剂雾化加热装置,所述第一基板接地并设置有投影镜头,所述第二基板为导电金属板并覆盖有静电感光板,所述静电感光板和粘胶剂雾化加热装置分别连入不同极性的电极。

作为优选,所述第一基板和第二基板的底部设置有粘胶剂回收槽。

作为优选,所述第一基板与第二基板内部设置有加热装置。

作为优选,所述加热装置位于所述第一基板与第二基板垂直方向上的下半部。

使用投影镜头使所述经典感光板烫画的区域带静电荷,将织物放置在所述带静电荷的烫画区域,同时所述粘胶剂雾化加热装置将带相反静电荷的粘胶剂雾化,雾化的粘胶剂在下降的过程中被所述带静电荷的烫画区域捕捉(即降落在织物的烫画区域),接着将图案按压至所述烫画区域,完成整个过程,由于雾化的粘胶剂在熔融状态下连接图案与织物,因此烫画效果较佳。

本发明的优点在于:使粘胶剂先牢固附着于织物面,使相对容易贴合的图案后与织物粘连,利于烫画的品质,同时雾化的粘胶剂有利于粘连的均匀性。

附图说明

图1是本织物烫画装置的投影镜头照射的结构示意图;

图2是本织物烫画装置织物烫画区域覆盖粘胶剂后的烫画示意图。

图中:10、固定图案;110、第一基板;120、第二基板;150、投影镜头;20、固定织物;200、粘胶剂雾化加热装置;300、粘胶剂回收槽。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:

参阅图1,在本实施例中,该织物烫画装置包括固定图案10的第一基板110和固定织物20的第二基板120,所述第一基板110和第二基板120垂直且相互平行设置,所述第一基板110与第二基板120之间设置有粘胶剂雾化加热装置200,所述第一基板110接地并设置有投影镜头150,所述第二基板120为导电金属板并覆盖有静电感光板,所述静电感光板和粘胶剂雾化加热装置200分别连入不同极性的电极。

所述静电感光板受到所述投影镜头150投射的烫画区域图像后,所述静电感光板的表面产生一个由静电荷组成的静电像,这种静电感光板在无光照的情况下,表面一旦有电荷存在,能较长时间地保存这些电荷;而在光照的情况上,静电感光板的电阻率很快下降,即成为电的良导体,使得静电感光板表面电荷很快释放而消失。所述静电感光板主要由硒及硒合金、氧化锌、有机光电导材料等构成,一般是在导电基体(本实施例中的第二基板120)上(如铝板或其它金属板)直接涂敷或蒸镀一薄层光电导材料。其结构是上面是光导层,下面是导电基体。

上述的织物烫画装置,所述第一基板110和第二基板120的底部设置有粘胶剂回收槽300,使没有被织物吸附的粘胶剂进行回收再利用。

上述的织物烫画装置,所述第一基板110与第二基板120内部设置有加热装置,使所述第一基板110和第二基板120之间保持一定温度,防止所述粘胶剂凝固。

上述的织物烫画装置,所述加热装置位于所述第一基板110与第二基板120垂直方向上的下半部,由于热量是往上升的,因此设置在下半部更合理。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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