[发明专利]透明导电玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及场发射器件领域，特别是涉及一种透明导电玻璃及其制备方法。

背景技术

场发射器件是一种新兴光源，通过在真空环境下，阴极板上的电子发射体发射的电子受阳极板上的正电压吸引后被加速，轰击到阳极板的荧光粉上而发光的。场发射光源能实现均匀的、薄型的、面光源式的发光，已经广泛应用于显示器、照明设备和微波元件中，具有巨大的应用潜力。

阳极板是场发射器件的重要组成部分，至上而下依次包括了导电玻璃基板、荧光粉层、介质层、反光层等。电子轰击荧光粉层发光，光线从导电玻璃基板透射出光。一般情况下，当光入射在给定的材料的光学元件的表面时，所产生的反射光与透射光能量确定，在不考虑吸收、散射等其他因素时，反射光与透射光的总能量等于入射光的能量。光线传播到透明导电玻璃基板下表面时，若入射角大于全反射角，就会发生全发射，导致反射光的能量增大，透射光能量的降低。传统的光滑导电玻璃基板，在导电玻璃基板的表面全反射率高，导致光线的透过率较低，同时阳极板整体的出光效率也不高。

发明内容

基于此，有必要提供一种全反射率较低、透过率较高的透明导电玻璃及其制备方法。

一种透明导电玻璃，包括导电玻璃基板及形成于所述导电玻璃基板表面的透明膜；

其中，所述透明膜的表面形成有多个凹槽；

所述透明膜的材料为光学树脂。

在其中一个实施例中，所述透明膜的厚度为200nm~500nm；所述凹槽的深度为30nm~200nm。

在其中一个实施例中，所述光学树脂为聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述凹槽为V型凹槽、U型凹槽或坑洞。

一种透明导电玻璃的制备方法，包括以下步骤：

将光学树脂溶于有机溶剂中形成光学树脂浆料，其中所述光学树脂与所述有机溶剂的质量比为4:1；

将所述光学树脂浆料涂覆于导电玻璃基板的表面，形成浆料膜；

将具有所述浆料膜的所述导电玻璃基板进行加热，以除去所述浆料膜中的所述有机溶剂，形成透明膜；及

在所述透明膜的表面形成多个凹槽。

在其中一个实施例中，所述光学树脂为聚甲基丙烯酸甲酯及聚碳酸酯中的至少一种，其中，所述聚甲基丙烯酸甲酯溶于有机溶剂丙酮或冰醋酸中，所述聚碳酸酯溶于有机溶剂乙醇或丙酮中。

在其中一个实施例中，采用旋涂法或丝网印刷法，在所述导电玻璃基板的表面形成所述浆料膜；采用压印法及湿法腐蚀法中的至少一种，在所述透明膜的表面形成所述多个凹槽。

在其中一个实施例中，采用旋涂法在所述导电玻璃基板的表面形成所述浆料膜的步骤包括：将所述导电玻璃基板放置于涂胶机中，所述涂胶机的转速为40rpm~60rpm，在所述导电玻璃基板表面中心以1~2滴/秒的速率滴入所述光学树脂浆料4min~5min，后以80rpm～100rpm的速度加速旋转15s~20s，在所述导电玻璃基板的表面形成所述浆料膜。

在其中一个实施例中，加热除去所述浆料膜中的有机溶剂形成所述透明膜的步骤包括：将具有所述浆料膜的所述导电玻璃基板置于低温炉中，以5℃/h~10℃/h的速率将所述低温炉升温至50℃~80℃，保温时间为30min~90min，形成的所述透明膜的厚度为200nm~500nm。

在其中一个实施例中，采用压印法在所述透明膜的表面形成所述多个凹槽的步骤包括：将含有所述透明膜的所述导电玻璃基板置于真空炉中，以0.5℃/min的速率将所述真空炉升温至85℃~150℃，用表面形成有与所述多个凹槽的形状相对应的凸起的滚轮以0.8rpm~3rpm的转速、4牛顿~5牛顿的压力滚压所述透明膜，在所述透明膜的表面形成所述多个凹槽。

上述透明导电玻璃，在导电玻璃基板的表面形成有透明膜，透明膜的表面形成有多个凹槽，能够增加导电玻璃基板的粗糙度，降低光线入射到导电玻璃基板时的全反射率，增大光线的透过率，从而提高阳极板整体的出光效率。

附图说明

图1为一实施方式的透明导电玻璃的结构图

图2为一实施方式的透明导电玻璃的制备方法的流程图；

图3至图4为一实施方式的透明导电玻璃的制备过程示意图；

图5为实施例2的透明导电玻璃的结构图；

图6为实施例3的透明导电玻璃的结构图。

具体实施方式