[发明专利]干涉式膜厚计有效
申请号: | 201210394819.1 | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN103063149A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 中谷贵之;横田博 | 申请(专利权)人: | 仓敷纺织株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王亚爱 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干涉 式膜厚计 | ||
1.一种干涉式膜厚计,具备:
投光部,其将来自光源的光照射至测量对象膜;
受光部,其对来自所述测量对象膜的反射光或者透射光进行受光;
焦点位置扫描部,其使共同焦点位置在规定范围内进行扫描,该共同焦点位置是被所述投光部照射的光的焦点位置、并且也是入射至所述受光部的光的焦点位置,
分光数据获取部,其获取所述受光部所接收的光的分光光谱数据;
能谱算出部,其基于所述分光光谱数据来计算能谱;
膜厚算出部,其基于所述能谱的数据来计算所述测量对象膜的膜厚;和
数据提取部,其针对所述分光光谱数据或者所述能谱的数据或者所述分光光谱数据和所述能谱的数据这两者设置阈值,提取所述阈值以上的数据,
所述膜厚算出部输出与所述数据提取部所提取的数据对应的膜厚数据。
2.根据权利要求1所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述投光部及所述受光部由使来自所述光源的光照射至所述测量对象膜并且接收来自所述测量对象膜的反射光的投受光部构成。
3.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路依次插入厚度或者折射率或者厚度和折射率这两者互相不同的多个透明平行平板,来改变所述共同焦点位置。
4.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部通过使在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路所配置的反射镜进行转动,由此改变所述共同焦点位置。
5.根据权利要求4所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部在所述反射镜与所述测量对象膜之间的光路依次插入厚度或者折射率或者厚度和折射率这两者互相不同的多个透明平行平板,来改变所述共同焦点位置。
6.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部通过使在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路所配置的透明平行平板进行转动,使得来自入射至所述投受光部的光的焦点的光的光轴与所述透明平行平板所形成的角度发生变化,由此改变所述共同焦点位置。
7.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部使在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路中互相平行配置的一对反射镜联动地进行转动,由此改变所述共同焦点位置。
8.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路中依次插入焦点距离互相不同的多个透镜,来改变所述共同焦点位置。
9.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路中依次插入楔角或者倾斜面的配置方向或者楔角和倾斜面的配置方向这两者互相不同的多个楔形基板,来改变所述共同焦点位置。
10.根据权利要求2所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述焦点位置扫描部具备在所述投受光部与所述测量对象膜之间的光路中所配置的2个楔形基板,
所述2个楔形基板具有相同的楔角、且倾斜面对置配置,
所述焦点位置扫描部按照位于所述光路的所述2个楔形基板的合计厚度发生变化的方式移动,来改变所述共同焦点位置。
11.根据权利要求1所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述投光部和所述受光部被配置在夹着所述测量对象膜的位置,
所述受光部对来自所述测量对象膜的透射光进行受光,
所述焦点位置扫描部保持所述投光部与所述受光部的距离及角度并且使所述投光部及所述受光部相对于所述测量对象膜进行移动,以改变所述共同焦点位置。
12.根据权利要求1~11任一项所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述数据提取部针对所述分光光谱数据中的受光强度设置所述阈值。
13.根据权利要求1~11任一项所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述数据提取部针对所述分光光谱数据中的受光强度的最大值与最小值之差设置所述阈值。
14.根据权利要求1~11任一项所述的干涉式膜厚计,其特征在于,
所述数据提取部针对所述能谱的数据中的峰值高度设置所述阈值。
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